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《器件与电路模拟》课程教学大纲 (Device and circuit simulation) 课程编号：163990390 学 分：4 学 时：64 （其中：讲课学时：48 实验学时： 上机学时：16 ） 先修课程：半导体器件与集成电路 后续课程：无 适用专业：应用物理专业 开课部门：理学院 一、课程的性质本课程属于。本课程的任务是。课程是Virtuoso Schmatic使用基础 （10学时） [知 识 点] Virtuoso Schmatic库的概念、电路图的输入、Symbol的创建；电路图的设计流程。 [重 点] 新建库和新建视图、使用快捷键进行电路图的编辑、电路的库管理方法、电路图与Symbol的对应关系。 [难 点] 前端电路设计流程。 [基本要求] 1、识 记：Cadence软件的启动命令、电路编辑窗口常用命令、层次化设计概念； 2、领 会：CIW(命令交互窗口)的功能、Cell和View的概念、鼠标的作用； 3、简单应用：Symbol的建立、反相器原理图的建立； 4、综合应用：反相器原理图的电路仿真。 [考核要求] 1、Virtuoso Schmatic的编辑操作命令的快捷键、库，单元和视图之间的关系、层次化设计概念； 2、CIW窗口的主要功能、Symbol建立的优点； 3、Virtuoso Schmatic电路设计的流程。 第5单元 版图编辑器Virtuoso使用基础 （10学时） [知 识 点] Virtuoso Layout技术库的配置、Virtuoso Layout编辑环境的配置、层的概念和作用。 [重 点] 显示层的设置与操作、Virtuoso Layout中快捷键进行几何图形绘制。 [难 点] 层含义与操作方法、几何图形的逻辑操作。 [基本要求] 1、识 记：Virtuoso Layout编辑操作命令的快捷键、技术文件的概念、显示文件的概念； 2、领 会：版图设计与 半导体工艺的关系、技术文件和显示文件的作用； 3、简单应用：Virtuoso Layout中工艺库的导入方法、Virtuoso Layout中Display Option的设置、Virtuoso Layout中几何图形的绘制； 4、综合应用：Virtuoso Layout中图层的生成。 [考核要求] 1、Virtuoso Layout的工艺文件的组成；版图编辑快捷键的识记； 2、LSW窗口中AV、NV、AS、NS的关系； 3、Virtuoso Layout版图绘制的流程。 第6单元 设计规则检查与版图验证（12学时） [知 识 点] Virtuoso Layout版图设计规则、版图物理验证作用、版图物理验证工具的使用。 [重 点] 设计规则检查工具的使用、电路与版图一致性检查工具的使用、设计规则的应用。 [难 点] 物理验证流程。 [基本要求] 1、识 记：设计规则的概念；常用的几种设计规则、阱接触的作用、DRC,LVS的概念； 2、领 会：版图编辑器中格点间距的设置、文字标注的作用、Calibre DRC中选项的作用、Calibre LVS中选项的作用； 3、简单应用：Calibre DRC的流程、Calibre LVSC流程； 4、综合应用：二输入与非门原理图的建立与版图的DRC和LVS检查。 [考核要求] 1、集成电路版图设计规则的概念、解释DRC和LVS的概念； 2、版图验证工具DRC和LVS的流程； 3、阱接触重掺杂的原因。 第7单元 集成电路常用器件版图（14学时） [知 识 点] 常用版图的版图形式、dummy器件的作用、电源与地的版图版图设计； [重 点] MOS晶体管版图、电阻和电容版图； [难 点] MOS管匹配的技巧、精确电阻的版图绘制。 [基本要求] 1、识 记：叉指（finger）的概念、倒比管的概念、保护环的概念、 2、领 会：MOS器件的对称方法、电阻的分类、电阻的版图设计、电容版图设计、闩锁效应的作用； 3、简单应用：倒比管的版图绘制； 4、综合应用：差分管的版图设计。 [考核要求] 1、叉指方式的优点、倒比管的定义以及优点、集成电路中电阻的分类以及其优劣； 2、虚设器件的定义及作用； 3、闩锁效应的机理及防止措施； 4、ESD的预防机制。 三、学时分配0 0 4 第2单元 集成电路制造工艺 6 0 0 6 第3单元 Linux操作系统与EDA软件介绍 6 0 2 8 第4单元Virtuoso Schematic使用 基础 6 0 4 10 第5单元 版图编辑器Virtuoso Layout使用基础 8 0 2 10 第6单元 设计规则