A位掺杂Bi4Ti3O12薄膜的制备及铁电性能研究.pdf

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A位掺杂Bi4Ti3O12薄膜的制备及铁电性能研究

Vol.46 No.12 第 46 卷 第 12 期 中 国 陶 瓷 中 国 陶 瓷 中 国 陶 瓷 2010年 第 12 期 Dec.2010 2007年 第 1 期 2010年 12 月 研究与开发 文章编号:1001-9642(2010)12-00012-03 A位掺杂 Bi Ti O 薄膜的制备及铁电性能研究 4 3 12 1 1 1 2 郭淑兰 ,王 敏 ,徐学东 ,李 佳 (1长春工程学院 机电学院, 长春 130000; 2宁波材料研究所, 宁波 315000) 【摘 要】采用溶胶-凝胶法制A位掺杂 BiTi O (BTO) 时间 30s, 每甩一层膜后先在 300℃保温 5min, 然后升 4 3 12 的 铁 电 薄 膜 Bi La Ti O (BLT)、Bi Nd Ti O (BNT) 温到 400℃保温 10min, 进行溶剂的挥发和有机物的分 3.25 0.75 3 12 3.15 0.85 3 12 及 Bi (La Nd ) Ti O (BLNT);XRD 结果表明制备的薄 解 , 之后随炉冷却。这样重复 5 层。最后于 750℃下退火 3.15 0.5 0.5 0.85 3 12 膜具有 (117) 和 (00l) 的 混合取向;在 10V 电压下,BLT、 30min, 在氧气气氛中进行 , 氧气流量为 1L/min。薄膜 BLNT 和 BNT 薄膜的 Pr 分别为 13.14μC/cm2 、20.65μC/cm2 制备完成后 , 为测试其电学性能 , 用磁控溅射方法制作 2 和 21.23μC/cm ;FE-SEM 显示 BNT 薄膜表面光滑致密 , 颗 -3 2 Pt上电极阵列 ,电极的面积为 3.85×10 cm 。 粒均匀,薄膜厚度约为300nm。 2 结果及讨论 【关键词】溶胶- 凝胶,铁电薄膜,极化值 中图分类号:TM22+1 文献标识码 :A 2.1薄膜的相组成 图 1 为不同比例的 La、Nd 共掺杂的 BTO 薄膜 引 言

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