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X射线荧光光谱分析技术介绍之二制样方法
X射线荧光光谱分析技术之二：
制样方法
制样要求：
• 1、均匀
• 2、重复性好
• 3、颗粒效应小
• 4、矿物效应小
• 5、无限厚（薄膜法除外）
分析层的厚度：无限厚
Sample
分析层(饱和厚度)
大于饱和厚度的样品
称为无限厚样品
to soller slit
(collimator)
X-ray tube
分析层的厚度：无限厚
Sn KA1 (25,2 keV)
Sample
Cr KA1 (5,4 keV)
Sn LA1 (3,4 keV)
B KA1 (0,18 keV)
to soller slit
样品是否无限厚 :
tube
取决于所分析的特征谱线
分析层的厚度：无限厚
Line Energy Graphite Glas Iron Lead
Cd KA1 23,17 keV 14,46 cm 8,20 mm 0,70 mm 77,30 μm
Mo KA1 17,48 6,06 3,60 0,31 36,70
Cu KA1 8,05 5,51 mm 0,38 36,40 μm 20,00
Ni KA1 7,48 4,39 0,31 29,80 16,60
Fe KA1 6,40 2,72 0,20 * 164,00 11,10
Cr KA1 5,41 1,62 0,12 104,00 7,23
S KA1 2,31 116,00 μm 14,80 μm 10,10 4,83
Mg KA1 1,25 20,00 7,08
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