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先进CMOS晶体管中实现金属栅工艺整合的CMP技术 - 半导体科技
Semiconductor Manufacturing
C M P
CMOS
CMP
kHKMGCMOS
Gate-lastkHKMGCMP
CMP
CMP
,CMPCMP,CMP
10nm
CMPkHKMG
IC CMP steps utilized
50
BEOL new
40
BEOL existing CMP
FEOL new
30
FEOL existing
CMP 20 CMP
10
0 1/0 0.25/4 65nm/8 16nm/12
Technology node/generation
1. 0.25umCMOS
, CMP
CMOS
IC
CMP OEM
IC
CMP CMP IC CMP
1
( , CMP 1m CMOS
)
CMP CMP IC 4 CMP [1]
0.35m
W
Paul Feeney, CMP Fellow, Cabot polySTI CMOS
Microelectronics Corp., Aurora, Illinois, USA CMP SiON
20 2011 Jun/Jul
Semiconductor Manufacturing
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