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硅基薄膜太阳能电池材料的制备与性能分析
摘要 lIIIHMIllHILIIII
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非晶硅、多晶硅太阳能电池具有很高的性比价优势。本论文通过优化薄膜沉积的工
艺参数,用磁控溅射技术制备硅薄膜,以期能够得到高质量的器件级硅薄膜材料。磁控
溅射技术是一种简单、低温、快速的生长薄膜的方法,能够在不使用有毒气体和可燃性
气体的情况下进行掺杂和沉积薄膜,用掺杂靶材直接用溅射法沉积成膜,这一方法节能、
高效、环保。磁控溅射法与其它技术相比,它的最大优势在于薄膜的沉积速率快,成膜
效率和经济效益太阳能电池行业是近些年发展的极其火热的一个朝阳产业。在硅系太阳
能电池中,非常诱人,该技术有希望大幅度降低太阳能电池的成本。
随着第三代太阳能电池,即薄膜太阳能电池研究的不断深入,制备高质量的多晶硅
薄膜是提高多晶硅薄膜太阳能电池的光伏转换效率,这是从本质上解决问题的一个途
径。本论文对高质量的多晶硅薄膜的制备方面做了一些探索性的工作,采用金属铝诱导
的方法成功制备了质量较高的多晶硅薄膜。首先用射频磁控溅技术在玻璃衬底上沉积非
晶硅薄膜和铝薄膜,然后在心气氛中对样品进行退火处理,最后通过原子力显微镜和
x射线仪对退火前后的磁控溅射法制备的硅薄膜进行了分析。
关键词:多晶硅薄膜,磁控溅射,铝诱导晶化,退火
ABSTRACT
in inrecent
Thesolarcellsisanew years.Thehigher
industryChina,whichdevelopingverysharply
in basedsolarcellswasverified
ratioofa-Siand thinfilmsolarcellssilicon
price poly—Si
performance
field.Thesiliconthinfilmshavebeen
the ofthis magnetronsputtering
throughdevelopment preparedby
evelfilms
neededinthe to device一1
methodinorderto scientificdatum processdeposithighquality by
get
the conditions.The isa film.The
simple,fast deposition
optimizingprocessing magnetronsputtering
withoutthe oftoxicorflammable
can siliconthinfilms usage gases,instead,
method,whichdepositdoped
to films toother
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