132 基于AFM的化学机械抛光磨粒模拟研究 - 本原扫描探针显微镜.PDF

2006年 11月 润滑与密封 Nov2006 第 11期 (总第 183期 ) LUBR ICA TION EN GIN EER IN G No11 ( serial No183) 基于 AFM 的化学机械抛光磨粒模拟研究 王 　春 　安 　伟 　赵永武 (江南大学机械工程学院　江苏无锡 2 14 122) 摘要 : 当前的化学机械抛光 ( CM P) 磨损模型中大多数都缺少微观试验数据的支持 。为进步揭示 CM P 中纳米磨粒 对材料表面的磨损机制 , 提出了采用原子力显微镜 (A FM ) 来模拟 CM P 中的单个磨粒的试验方案 , 并验证该模拟试验 方案的可行性 。结果表明: 采用 A FM 探针来模拟 CM P过程中单个磨粒对芯片表面的磨损与相互作用的试验方案是完全 可行的; 可以通过 A FM 探针对芯片表面的相互作用与磨损 , 模拟得出单个磨粒对芯片表面的作用与磨损状况 , 并可以 在此微观试验数据的基础上建立起新的 CM P磨损模型 。 关键词 : 化学机械抛光 ( CM P) ; 原子力显微镜 (A FM ) ; 磨粒模拟 中图分类号 : TH 1171　文献标识码 : A 　文章编号 : 0254 - 0 150 (2006) 11 - 096 - 3 n S im ula tion for an Abra sive Particle of the Chem ica l M echan ica l c . Polish ing w ith AFM W a n g C hun 　A n W e i　Zh ao Yo n gw u ( m ) Schoo l of M echan ical Engineering, Sou thern Yangtze U n iversity,W uxi J iangsu 2 14 122 , Ch ina A b stract: To study the m icrowear m echan ism of a nanop artilce on m aterial su rface du ring the chem ical m echan ical o polish ing ( CM P) , an exp erim ent for u sing atom ic force m icro scop y (AFM ) to simu late a nanop article was put forward, c and its feasib ility was validated. The resu lts show that it is fea sib ility to simu late the wear and interaction of a nanop article . of the CM P on the wafer w ith AFM. Through the wear and interaction of the A FM ’s tip on the wafer, th