湿式清洗暨蚀刻系统设备规范-国家实验研究院.DOC

財團法人國家實驗研究院 國家奈米元件實驗室 濕式清洗暨蝕刻系統 招標規範書 目錄 1. 說明………………………………………………………………………………………3 2. 濕式清洗暨蝕刻系統設備規範…………………………………………………………3 3. 得標廠商注意事項………………………………………………………………………20 4. 規格審查文件……………………………………………………………………………2履約期限…………………………………………………………………………………2 6. 驗收標準 …………………………………………………………………22 7. 保固………………………………………………………………………………………其他………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………25 1. 說明 本規範適用於國家奈米元件實驗室（以下簡稱 NDL）））聚丙烯 (Polyproylene)；顏色：象牙白；厚度：10mm。 2.2.4. 設備操作平台：聚丙烯））））Exhaust ）Exhaust ）um 之粒子數目（Particles/ft3）；）…。(循環記錄 500 組) 7. 登錄：使用權限登錄等級。 2.4.4. 設備於驗機完成使用後，得標廠商需配合軟體修改、更新版本至少一次。 2.5. 化學品供應計量及預混裝置 2.5.1. 化學品供應之濃度調配計量方式不限，但須可隨意由人機介面立即調整配比濃 度。其調配的濃度範圍。以氫氟酸溶液為例，需可達下列精準度。 HF(49％) : DI Water 1：10 1：50 1：100 1：200 1：400 2.5.2. 需配置相關藥品之預混槽於設備後方，方便做化學溶液濃度計量補充設定。 預混槽材質需符合耐酸、鹼抗腐蝕特性；其裝置方式需符合工安需求，安裝1組 釋壓閥及 1～2 Pre – filter，以利預混槽於化學品內進出料時壓力釋放。預混槽之 容量：3L～10L。 2.5.3. 需保留ON-LINE化學濃度分析儀擴充機制，以利即時監控化學品濃度。 2.6. 製程單元 2.6.1. SPM1 (硫酸槽 1 ) ● Chemical : H2SO4 + H2O2 ● Tank Unit Shape : Statics type(廠牌：IMTEC或同級品) ● Tank Material : Quartz ● Tank Capacity :≦ 25L(藥水容量需蓋滿8吋全罩式晶舟及25片晶圓) ● Process Temp : 依製程溫度設定，其製程溫度至少可達125℃±3℃ ● Temp Control : 感溫棒 PT 100（100℃內做精準控制，誤差值：0.1℃） ● Auto Cover : 一組(須有位置檢知功能) ● 藥品濃度補充 : Yes， (H2O2) 5CC/stroke ● Level Sensor : N2 back pressure sensor，(須至少檢知 4組位置,能調整高低並於操作螢 幕上顯示) ● Chemical Supply : 介面訊號以乾接點為主連接廠務端化學品中央供應系統 ● Chemical Drain : By Gravitating Drain(至少於10分鐘內排放完成) ● Etch Stop Control : Recipe setting by time (人機介面設定) ● Buffer Tank : Yes，(H2O2)(5 - 20L) 2.6.2. QDR(快沖槽 ) for SPM1 ● Chemical to be used : H2O(DI Water) ● Tank Shape : 4-lip overflow bath(V- notch) ● Process Tank Material : PVDF ● Process Temp : Room Temp ● Process Tank Capacity : ≦ 35L（可容納全罩式8吋晶舟及25片晶圓之沖洗浸泡） ● DIW Shower : DIW Shower nozzle PVDF DIW supplyAir Valve 1/2” ● Process Flow Rate : DIW supply ValveAir Valve 3/4” ● N2 bubble : Yes ● Drain type : Quick Drain ● Drain pipe : to drain/to reclaim ● Recipe set : Recipe set time (人機介面設定) 2.6.3 . SPM2 (硫酸槽