以常压电浆辅助化学气相沈积制备疏水薄膜 - 机械工业杂志.pdfVIP

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2017-09-02 发布于天津
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以常压电浆辅助化学气相沈积制备疏水薄膜 - 机械工业杂志.pdf

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以常压电浆辅助化学气相沈积制备疏水薄膜 - 机械工业杂志

─論‧文‧選‧粹─ 2006 International Manufacturing Leaders Forum 2006 國際製造領袖論壇論文選粹以常壓電漿輔助化學氣相沈積製備疏水薄膜 High Performance Water Repellent Thin Films Performed by Atmospheric Pressure Plasma Chemical Vapor Deposition 陳志瑋‧謝文宗‧劉志宏‧林春宏工業技術研究院機械與系統研究所關鍵詞摘要疏水薄膜本研究為使用大氣電漿化學氣相沈積法(APPCVD)在玻璃表 thin films 面鍍製疏水薄膜，以乾燥壓縮空氣(CDA)作為常壓噴射電漿之激常壓電漿發氣體，FAS(fluoroalkyl silanes)作為鍍膜單體，通過常壓電漿之 atmospheric pressure plasma 作用，使薄膜沈積於基板表面。試片表面利用靜態接觸角量測化學氣相沈積儀分析其水滴接觸角，以 XPS 分析表面化學成分，以 AFM 觀 chemical vapor deposition 察試片表面型態與粗糙度。實驗結果顯示 FAS 薄膜具有約 90 度之水滴接觸角，而隨著電漿功率的變化亦會獲得不同的分子結構與粗糙度。簡介在自然界中，蓮花是表面疏水現象的最佳範例。由於葉片表面附著一層含臘物質並具有微小奈米級突起結構，水滴可輕 │ │ 2007.02 │157