调质40cr磁控溅射制备crn涂层工艺优化设计 - 重庆理工大学学报.PDF

第２７卷　第１２期 重 庆 理 工 大 学 学报（自然科学） ２０１３年１２月 Ｖｏｌ．２７　　Ｎｏ．１２ ＪｏｕｒｎａｌｏｆＣｈｏｎｇｑｉｎｇＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（ＮａｔｕｒａｌＳｃｉｅｎｃｅ） Ｄｅｃ．２０１３  ｄｏｉ：１０．３９６９／ｊ．ｉｓｓｎ．１６７４－８４２５（ｚ）．２０１３．１２．００８ 调质４０Ｃｒ磁控溅射制备 ＣｒＮ涂层工艺优化设计 王　松，李　晖，陈　勇，许洪斌，孙迎军，刘　威 （重庆理工大学 材料科学与工程学院，重庆　４０００５４） 摘　　　要：为找到合适的工艺方案，使之能通过磁控溅射在调质４０Ｃｒ表面制备得到性能良好 的ＣｒＮ涂层，采用正交试验的方法进行试验设计及数据分析。选取氮气流量、工作真空度、靶功 率、沉积时间为主要因素，将涂层表面光洁度、涂层厚度、涂层硬度、涂层与基体的结合力作为衡 量标准。结果表明最佳工艺方案为：Ｎ 流量为４０ｓｃｃｍ，工作真空度为１．２Ｐａ，靶功率为１５０Ｗ， ２ 沉积时间为１２０ｍｉｎ。 关　键　词：磁控溅射；ＣｒＮ涂层；工艺优化 中图分类号：ＴＧ１７４．４５３　　　　文献标识码：Ａ 文章编号：１６７４－８４２５（２０１３）１２－００３８－０６ ＰｒｏｃｅｓｓＯｐｔｉｍｉｚａｔｉｏｎＤｅｓｉｇｎｏｆＣｒＮＣｏａｔｉｎｇＤｅｐｏｓｉｔｅｄｏｎＱｕｅｎｃｈｅｄ ａｎｄＴｅｍｐｅｒｅｄ４０ＣｒＳｔｅｅｌｂｙＭａｇｎｅｔｒｏｎＳｐｕｔｔｅｒｉｎｇ ＷＡＮＧＳｏｎｇ，ＬＩＨｕｉ，ＣＨＥＮＹｏｎｇ，ＸＵＨｏｎｇｂｉｎ，ＳＵＮＹｉｎｇｊｕｎ，ＬＩＵＷｅｉ （ＳｃｈｏｏｌｏｆＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ， ＣｈｏｎｇｑｉｎｇＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｃｈｏｎｇｑｉｎｇ４０００５４，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：ＴｈｅｏｒｔｈｏｇｏｎａｌｔｅｓｔｗａｓｕｓｅｄｔｏｏｂｔａｉｎａｎａｐｐｒｏｐｒｉａｔｅｐｒｏｃｅｓｓｓｃｈｅｍｅｆｏｒｄｅｐｏｓｉｔｉｎｇＣｒＮ ｆｉｌｍｏｎｔｈｅｑｕｅｎｃｈｅｄａｎｄｔｅｍｐｅｒｅｄ４０Ｃｒｂｙｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ．ＴｈｅＮｐａｒｔｉａｌｐｒｅｓｓｕｒｅ，ｄｅｇｒｅｅｏｆ ２ ｖａｃｕｕｍ，ｔａｒｇｅｔｐｏｗｅｒ，ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎｔｉｍｅｗｅｒｅａｓｔｈｅｍａｉｎｆａｃｔｏｒｓ，ａｎｄｔｈｅｓｕｒｆａｃｅｒｏｕｇｈｎｅｓｓ，ｔｈｉｃｋ ｎｅｓｓ，ｈａｒｄｎｅｓｓ，ｔｈｅｃｏａｔｉｎｇａｎｄｔｈｅｓｕｂｓｔｒａｔｅｂｏｎｄｉｎｇｆｏｒｃｅｗｅｒｅａｓｔｈｅｒｅｆｅｒｅｎｃｅｐｏｉｎｔｓ．Ｔｈｅｒｅｓｕｌｔ ｓｈｏｗｓｔｈａｔｔｈｅｏｐｔｉｍａｌｐｒｏｃｅｓｓｗｅｒｅ：Ｎｆｌｏｗｏｆ４０ｓｃｃｍ，ｖａｃｕｕｍｏｆ１．２Ｐａ，ｔａｒｇｅｔｐｏｗｅｒｏｆ１５０Ｗ， ２ ｃｏａｔｅｄ１２０ｍｉｎ． Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ；ＣｒＮｃｏａｔｉｎｇ；ｐｒｏｃｅｓｓｏｐｔｉｍｉｚａｔｉｏｎｄｅｓｉｇｎ 　　调质４０Ｃｒ钢是制造齿轮的常用材料，由于齿 备ＣｒＮ涂层。结果表明：在较低基片温度和工作 轮失效常常始于齿面，因此提高调质４０Ｃｒ钢的表 真空度下ＣｒＮ涂层呈（１１１）取向；随着基片温度和 面性能十分必要。ＣｒＮ涂层具有良好的耐高温、 工作真空度的增大，涂层向（２００）取向变化。另 耐磨损、耐腐蚀、耐粘着性、摩擦因数较低等优点， 外，取向还同涂层的厚度及涂层中的残余应力有 适用于刀具、模具、钻头等［１－３］。ＨｅｔａｌＮＳｈａｈ 关，基片温度、工作压力及能量密度的增大使得 ［４］