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DUV-DPL 光发射电子显微镜 DUV-DPL光子流密度比同步 辐射提高6个量级,达1019～ 1020光子/秒?cm2 使空间分辨率从20nm提高到 5nm，使 10nm的表面电子 态成像和微区谱学分析成 为可能 推动纳米体系表面动力学 研究的发展 DUV—DPL 电子透镜系统 荧光转换CCD记录系统 深紫外激光光致发光光谱仪 深紫外激光光致发光光谱仪，使超宽带隙半导体材料的能带结构、杂质分析、掺杂机制、激子谱等有关基本物理参数的探测成为可能。 DUV—DPL拉曼光谱仪 DUV-DPL 拉曼光谱仪 Near-IR Vis. UV DUV ?(nm) 1064 532 266 177.3 I(a.u.) 1 16 256 1295 提高信噪比 I ? ( 1/? )4 开拓新波段，发现新谱线 推动催化科学、光电材料、生物等领域的发展 DUV—DPL 真空样品腔 单色仪 色谱 光子计数 177.3 光谱仪 DUV-DPL光化学反应仪 DUV-DPL光化学反应仪 现有3000多万个化合物90%吸收谱在DUV波段 高光子能量使单光子吸收的高激发态研究成为可能 相干和超快双分子反应研究可能会发现很多新现象 发现新反应、创造新物质、发展新理论 DUV-DPL将为掩模制作带来革命性变革 深层光刻将对MEMS等微纳加工领域带来重大的变革 小型深紫外激光加工机，用于加工纳米尺度的微结构、具有方便、灵活、大面积的特点，在纳电子和纳光电子及生物传感器领域均具有应用前景 …… DUV-DPL信息领域应用 DUV-DPL在资环领域可能推动若干新技术的发展，如： 气溶胶化学成分分析 地质样品微区/微束分析 Ar年代学研究 …… DUV-DPL资环领域应用 DUV-DPL在生命科学领域可能发挥重大作用，如： 流式细胞仪 细胞融合仪 外源基因定向导入 DNA结构排序 …… DUV-DPL 生命科学领域应用 一种新仪器新装备的诞生，往往是打开一个新方向新领域的关键桥梁。 ——路甬祥 2006.3.31 结束语 谢 谢！ * * * * * * * * 深紫外全固态激光（DUV-DPL）技术及应用 中国科学院理化技术研究所 许祖彦 报告内容 一、DUV简介 二、DUV—DPL技术 三、DUV—DPL应用前景 一、DUV简介 深紫外（DUV）激光：200nm以短的相干辐射源 深紫外光源： 1、非相干光源 2、相干光源 同步辐射 ● 准分子激光 气体放电 ● 气体高次谐波 ● 四波混频 ● 自由电子激光 ● 全固态激光（DPL） 同步辐射 ● 气体放电(He 21.2eV) 波段宽 单一波长 能量分辨率低 能量分辨率低 光束流强度弱 光束流强度弱 两种运转 运转单一 可聚焦光斑较大 可聚焦光斑大 一、DUV简介 1、非相干光源 准分子激光 XeCl：308 nm KrF： 248 nm ArF：193 nm F2： 157 nm 高平均功率(W～kW) 运转频率(Hz～kHz) 脉冲宽度(ns) 光束质量差 调谐困难，范围窄(nm) 有毒气体，寿命有限 横向放电稳定性差 2、相干光源 一、DUV简介 * 气体高次谐波/四波混频 高次谐波：? ～ 2nm 四波混频：70 ～200nm 波长短 效率低 待实用化 自由电子激光器 技术尚不成熟 一、DUV简介 2、相干光源 DPL特点、优势： 实用化：体积小、效率高、 光束质量好、寿命长 精密化：宽调谐、窄线宽、 低频至高重频、脉宽：cw— fs、 稳定性好 实用化、精密化 一、DUV简介 大功率 半导体 激光器 激 光 材 料 非线性 晶 体 激