用material studio 画晶胞及参数设置.pdf

一种情况: 从程序自带的各种晶体及有机模型中导入体系的晶胞 1． 打开MS，由fileimportstructuresmetals\pure-metalsFe 导入Fe 的晶胞。 2 ． 由buildSurfacescleave Surfaces 打开对话框. 在对话框中输入要建立的晶面（hkl ），选择position，其中depth 控制晶面层数。 3 ． 进入buildSupercell ，输入A 、B 、C 的值，得到想要的超晶胞。 4 ． 到该步骤，我们已经建立了一个周期性的超晶胞。如果要做周期性计算，则应选择buildCrystalsbuil d vaccum slab，其中真空层通常选择10 埃以上。如果建立团簇模型则选择buildSymmetryNon-periodic Structure ，去掉模型的周期性，并跟据自己的实际需要删除部分原子，得到想要的团簇模型。 5 ． 在表面插入分子时通过菜单栏上的几个小图标添加即可。 二种情况: 手动建模，优点是可控制晶格常数。 6 ． 首先从文献中查到晶体的晶格常数的实验值。 7 ． 打开buildCrystalsbuild crystals，可见到对话框。 在对话框中选择空间群与点群，然后在Lattice Parameter 中设置晶胞基矢的长度及夹角。 8． 然后打开buildAdd atom，从对话框中输入坐标。这里只需输入几个有代表性的原子的坐标，不必全 部输入。在坐标输入前首先在option 页面中选择coordinate system，或者分数坐标或者卡迪尔坐标。 9 ． 以下步骤重复2-5 步。 10．需要注意的是，采取什么样的团簇并不是任意的。 因是很多模型构造出来后在优化过程中往往不收 敛。要避免这个问题的办法是查阅文献，参考文献上模型进行选取，因为它们的模型通常是经过试验证实 收敛的。 几点说 1． 与高斯相比，dmol3 能够计算的体系更大。如果要研究表面的吸附，而模拟表面的团簇模型又比较大， 建议采用dmol3 。如果计算的是局部化学反应，而体系也不是很大，则可以使用高斯。 2 ． 关于是否考虑周期性条件的问题 研究金属表面时，团簇计算方法在前些年由于计算量小曾经被广泛的应用过，直到现在也被很多人在使用 着，主要被用来计算吸附和多个分子的共吸附等，即不考虑化学键的断裂。近年来由于国际上计算能力的 提升，人们开始考虑周期性条件，这点从JPCA，JPCB，PRL，PRB，JACS 等杂志上刊出的文章里也可以 看出，但是计算量要大很多。 需要注意的是，由于团簇计算方法没有考虑周期性，即在k 空间里只计算了 点，采用该方法计算表面的 化学键的断裂 （即表面扩散问题等）时有可能受到质疑。 3 ．在研究表面时，通常把团簇固定，只优化吸附在表面的分子，这一点可以通过菜单栏上的ModifyCons traint 实现。首先选定团簇中需要固定的原子，然后在下面的对话框中打勾。同时也可以在Measurement 里 固定部分键长和键角。 4. 关于计算参数设置 主要有几个参数需要注意 1 对于Electronic 页面，需要注意的是Core treatment,对于过渡金属原子通常需要考虑相对论效应，因此一 般不使用All Electron 方法。其他几种方法任选。 Basis set 应为DNP ，Setup 下的Quality 一般选fine 。为了提高计算速度，一个较好的办法是先用粗糙的 Basis set 和Quality 进行优化，然后再提高精度。 2 还有一个非常重要的选项是ElectronicMoreSCF 里的Use smearing 。这个关键字有助于加快收敛，但 是设的多大往往会产生错 的结果，它也相当于允许的 差范围。具体设置办法可参考help 。 其他的关键字可酌情设置。