玻璃微流控芯片的低成本制作技术 Low-cost Fabrication Technology of Glass-based Microfluidic Chip.pdfVIP

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2017-08-03 发布于上海
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玻璃微流控芯片的低成本制作技术 Low-cost Fabrication Technology of Glass-based Microfluidic Chip.pdf

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SEM ICONDUCTOR0PTOELECTR0NICs Vo1．32No．6 Dec．2011 玻璃微流控芯片的低成本制作技术李东玲，温志渝，尚正国，王胜强 (1．新型微纳器件与系统国家重点实验室，重庆 400044；2．重庆大学微系统研究中心。重庆 400044) 摘要：针对玻璃微流控芯片制作中普遍存在的成本高、加工周期长等问题，提出了一种基于湿法腐蚀技术的低成本、实用化制作方法。该方法以商用显微载玻片作为基底材料，采用普通负性光刻胶 RFJ一220为腐蚀掩模，通过优化光刻及湿法腐蚀工艺，可得到深度大于 40肚m(最深可达 110 m)，侧向钻蚀比为 1．25：1，表面粗糙度小于5．2nm 的微沟道。重点解决了光刻胶与基底之间的粘附性问题，并分析了腐蚀液的配比及腐蚀方式等对沟道形貌的影响。整个制作工艺过程简单，成本低，稳定性好，可广泛应用于玻璃微流控芯片的制作中。关键词：微流控芯片；湿法腐蚀；光刻胶掩膜；侧向钻蚀比中图分类号：TN305．7 文献标识码：A 文章编号：1001—5868(2011)06--0820—05 Low—costFabricationTechnologyofGlass-basedM icrofluidicChip LIDongling ，WEN Zhiyu ，SHANG Zhengguo ，W ANG Shengqiang’ (1．NationalKeyLaboratoryofNovelMicro／NanoDeviceandSystem。Chongqing400044，CHN； 2．Microsystem ResearchCenter，ChongqingUniversity，Chongqing400044，CHN) Abstract： Aiming atthe problems such as high costand long processing period in fabricatingglass—basedmicrofluidicchips，asimpleandlow costfabricationprocessbasedonwet etchingtechnologywasproposed．Commercialglassslidewasusedasthesubstrate，and the generalnegativephotoresistRFJ一220wasusedastheetchingmask．Byoptimizingtheprocessing parametersofphotolithographyandwetetching，microchannelswith thedepthgreaterthan40 m ，undercutratioof1．25 ：1andsurfaceroughnesslessthan5．2nm wereobtained．The problem ofadhesionbetweenthephotoresistandthesubstratewassolved．Itwasalsoanalyzed the influence of corrosive liquid ratio and etching methods on the microchannelsurface topography．Thewholeprocessissimple，low cost，reliable，and can bewidely used in the fabricationofglassbasedmicrofluidicchip． Keywords： microfluidicchip；wetetching；photoresistmask；undercutratio 0 引言猛，并开始在化学、生命科学以及医学器件等领域发