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- 2017-08-04 发布于北京
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学习情境3 太阳能电池结构和制备 太阳能电池结构 P-N结 不是简单的物理结合 制备PN结方式: 合金法(早期使用) 扩散法(最简单、最常用) 离子注入法 薄膜生长法(最新) 按结构分类 按基质材料和扩散杂质不同而分类: 基质材料为P型,扩散杂质为N型,N型材料为受光面; 基质材料为N型,扩散杂质为P型,P型材料为受光面; 工作原理 PN结结合,由于浓度梯度,P型区空穴、N型区电子分别互扩散,形成空间电荷区(空间电场,电场由N指向P)。 当用太阳光照射太阳能电池表面时,光子能量将使电池片内部电子激发,产生电子-空穴对 电子向带正电的N区移动,空穴向带负电的P区移动; 最后造成太阳能电池受光面(上表面)有大量负电荷(电子)累积,在电池背光面(下表面)有大量正电荷(空穴)累积; 在电池上、下表面做金属电极,并用导线接上负载,在负载上就有电流流过; 太阳能电池制造工艺 以单晶硅电池为例: 单晶棒拉制(P型) 晶片加工(切割,300μm) 腐蚀、清洗(目的?) 扩磷(形成P-N结) 制作减反膜 制作上下电极(蒸发或丝网印刷) 绒面结构: 选择择优腐蚀,可以在晶片表面形成金字塔结构,称为绒面结构,又叫表面织构化; 作用:比平整的化学抛光片表面具有更好的减反射效果,能够更好地吸收和利用太阳光。 优势: 当一束光线照射在平整的抛光硅片上时,约有30%的太阳光会被反射掉; 如果光线照射在金字塔形的绒面结构上,反射的光线会进一步照射在相邻的绒面结构上,减少了太阳光的反射; 同时,光线斜射入晶体中,从而增加了太阳光在硅片内部的有效运动长度,也就是增加了光线被吸收的机会。 制备绒面结构腐蚀液: NaOH或KOH(利用其各向异性腐蚀特性进行腐蚀); Si+2NaOH+H2O NaSiO3 +H2 P-N结制备 原材料:(100)方向掺硼的P型硅作为基底; 制作工艺:900℃,通过扩散磷形成N型半导体,形成P-N结; 扩磷方式:气态源扩散、固态源扩散、液态源扩散; 气态磷源:磷烷(P2H5) 反应式: 2P2H5 4P+5H2 固态磷源:磷玻璃片(Al(PO3)3) 反应式: (Al(PO3)3) AlPO4 +P2O5 2P2O5+5Si 5SiO2+4P 补充: 固态磷扩散还可以利用丝网印刷、喷涂、旋涂、化学气相淀积等技术,在硅片表面沉积一层磷的化合物; 通常是P2O5,然后再高温下和硅反应,生成单质磷原子,扩散到晶片内部,形成P-N结。 液态磷源:三氯氧磷(可得到较高的表面浓度) 反应式: 5POCl3 P2O5+3PCl5 2P2O5+5Si 5SiO2+4P 为使P-N结处有尽量多的光线到达,P-N结的结深要尽量浅,一般为250nm,甚至更浅; 扩散时采用两步扩散法:预淀积、再扩散; 去PSG膜 何谓PSG膜? 磷硅玻璃,二氧化硅(SiO2中加磷元素); 如何产生? 5POCl3 P2O5+3PCl5 2P2O5+5Si 5SiO2+4P 在硅片表面形成一层含有磷元素的SiO2; 必须去除,否则影响光线的入射,影响吸收效率; 腐蚀液: HF(氢氟酸) SiO2+4HF SiF4 +2H2O 铝背场(背电极) 目的: 为了改善太阳能电池的效率,在P-N结制备完成后,在硅片背面,即背光面沉积一层铝膜,制备P+层,称为铝背场,是为了减少少数载流子在背面复合的几率; 也可作为背面的金属电极; 制备方式:溅射 金属电极 传统制备方式:真空蒸发、电镀 缺点:成本昂贵、工艺复杂;受光面的金属会阻挡太阳光线,减少太阳光的吸收; 要求金属电极占表面的面积越小越好; 目前采用丝网印刷方式,在太阳能电池的两面制备成梳齿状的金属电极; 典型金属电极膜厚为10~25μm,宽度为150~250 μm; 材料:超细纯银或铅作为主体金属,然后配一定的辅助剂制成膏状,形成印刷浆料; 减反射层 目的:与表面绒面结构一样,可有效的减少太阳光的反射。 减反射效果取决于反射膜的折射率及厚度。 原理:利用减反射膜在上、下表面所产生的光程差,使得两束反射光叠加相消,从而减少反射,增加透射; 材料要求:具有很好的透光性,对光线的吸收越少越好;同时具有良好的耐化学腐蚀性,良好的硅片粘接性; 减反射层材料 TiO2 SnO2 SiO2 SiNx(x≤2是常用的减反射膜) M
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