45 nm工艺与先进的光刻设备 The 45 nm Technology and Advanced Lithography Equipment.pdfVIP

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2017-08-12 发布于上海
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45 nm工艺与先进的光刻设备 The 45 nm Technology and Advanced Lithography Equipment

电子工业专用设备先进光刻技术 Eguipment for Electronic Products Manufacturing 45 nm 工艺与先进的光刻设备翁寿松 ! # 无锡市罗特电子公司无锡2 14001 摘要! 年是芯片量产年和芯片首推年! 浸没式光刻机将在量产 2006 65 nm 45nm 193 nm ArF ! 65 45 32 nm 芯片中大显身手大展鸿图 ! $ $ 关键词 45 nm 工艺 193 nm ArF 浸没式光刻机分辨率中图分类号! 文献标识码! 文章编号! TN305.7 A 1004-4507(2006)09-000 1-06 The 45 nm Technology and Advanced Lithography Eguipment wENG Shou-song (wuxi luo te electronic Co.,LTD, wuxi 2 14001, Cgina) Abstract : The 65 nm chips are batch processed and processed and the 45 nm chips are peocessed in the year 2006.The 193nm ArF immersion lithography eguipment Display ones skills to the full for bath process in the 65/45/32 nm chips. Keywords: 45 nm technology;193 nm ArF immersion lithography Eguipment ;Resolution 英特尔一马当先紧紧跟上 20% 以上；降低晶体管电流泄漏为原泄漏的 1/5 ，存 1 TI 储单元面积 2 0.346 !m 。 2006 年不仅是 65 nm 芯片的量产年，而且是英特尔 45 nm 工艺 P 1266 ，其主要工艺是：（ 45 nm 芯片首推年。至 2006 年 6 月，英特尔己在美 1）采用 139 nm ArF 光刻技术；国亚利桑那州 Fab 12- 厂、俄勒冈州 DLD 厂和爱尔（2）采用应变硅技术； 3）不采用 finFEF 或三栅极结构，晶体管仍是兰 Leixlip Fab24-2 厂等 3 座 65 nm 晶圆厂量产 65 nm （芯片，目前英特尔 65 nm 芯片产量己超过 90 nm