等离子弧淬火单片机控制系统的研究 study on mcu control system with plasma arc quenching.pdfVIP

2011年第1期 东北电力技术 5 等离子弧淬火单片机控制系统的研究 onMCUControl withPlasmaArc Study System Quenching 于光平，刘 冰，杨静山 (沈阳工业大学，辽宁 沈阳 110870) 摘要：等离子弧淬火热源装置热效率高，成本低，有巨大的发展潜力。等离子弧淬火单片机控制系统通过双反馈环节(高 速反馈控制环节和低速总体趋势控制环节)实现淬火过程中对淬火电流的稳定控制，使系统在特殊干扰下或失控时工件得 到快速保护而不被烧蚀。设计的等离子弧淬火单片机控制系统的控制过程具有智能调节功能，可提高工件淬火稳定性从而 提高淬火质量。系统设计中采取了一系列抗电磁干扰措施，使系统可在高频大电流的强电磁干扰下可靠工作。 关键词：等离子弧淬火；单片机；抗干扰 Abstract：Heatsourcedevicewith isof forits thermal andlowcost．MCUcontrol plasma踟quenchinggreat efficiency capacityhigh with arc MCUcontrol with al-e controlof currentis systemplasmaquenching．In systemplasmaquenching，stabilityquenching imple— mentedbi-feedback feedbackcontroland overall吮nd thatthe can by procedures(high—speed low—speed contr01)，SOworkpiece be fromablationunder interferenceoroutofcontr01．The ofMCUcontrol quicklyprotected special designedcontrollingprocedure sys— of temwith arc has functionwhichcanenhance ofthe because plasmaquenchinginteHigent quenchingstabilityworkpiece hi【gh adjusting seriousof measuresis tothe thatthe canwork quenchingquality．A anti·electromagneticapplieddesignedsystem，SO system reliably under interferenceofHF current． powerelectromagnetic large arc interference Keywords：Plasma quenching；MCU；Stmng [中图分类号]TGl56．3[文献标志码]A[文章编号]1004—7913(2011)01—0005—03 等离子弧淬火是应用等离子弧作为热源，对金 子弧淬火技术在工业中的进一步推广和应用创造 属零件进行表面热处理的一种新型的表面强化技 条件。 术。等离子淬火装置体积小，工件在等离子弧表面 l 离子弧淬火工