薄膜物理和技术B卷答案.docVIP

《薄膜物理与技术》B卷试题参考答案及评分细则 一、名词解释：（本题满分12分，每小题3分） 1、瞬时蒸发法 瞬时蒸发法是指将细小的合金颗粒，逐次送到非常炽热的蒸发器或坩锅中，使一个一个的颗粒实现瞬间完全蒸发。（3分） 2、溅射 溅射是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子（或分子）从表面射出的现象。（3分） 3、活性反应离子镀 活性反应离子镀是指在离子镀过程中，在真空室中导入能和金属蒸气起反应的气体（1分），并用各种放电方式使金属蒸气和反应气体的分子、原子激活离化（2分），促进其间的化学反应，在基片表面上获得化合物薄膜的方法（3分）。 4、成核速率 成核速率是指单位时间内在单位基体表面上形成稳定核的数量。（3分） 二、简答题：（本题满分88分） 1、什么叫真空？典型的真空系统由哪些部分组成？（5分） 答：真空是指低于一个大气压的气体空间。（1分）典型的真空系统应包括：待抽空的容器（真空室）、获得真空的设备（真空泵）、测量真空的器具（真空计）以及必要的管道、阀门和其他附属设备。（4分） 2、简述磁控溅射的工作原理。（7分） 答：磁控溅射的工作原理是：电子e在电场E作用下，在飞向基板过程中与氩原子发生碰撞，使其电离出Ar＋和一个新的电子e，电子飞向基片，在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子则淀积在基片上形成薄膜。 二次电