改进缺陷,套刻和聚焦性能的第五世代浸没式曝光系统 defects,overlay and focus performance improvements with five generations of immersion exposure systems.pdfVIP

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2017-08-13 发布于上海
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改进缺陷,套刻和聚焦性能的第五世代浸没式曝光系统 defects,overlay and focus performance improvements with five generations of immersion exposure systems.pdf

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改进缺陷,套刻和聚焦性能的第五世代浸没式曝光系统 defects,overlay and focus performance improvements with five generations of immersion exposure systems

·IC制造设备· 改进缺陷，童刻和聚焦性雒的第五世代浸没式曝巍系统 Jan de Mulkens，BobStreefkerk，HansJasper,Jos Klerk，Fred如Jong, LeonLevasier and Leenders． Martijn NetherlandsB。V。DeRun DR (ASML 6501，5504Veldhoven，TheNetherlands) 摘要：论述了第五世代双扫描平台浸液式扫描曝光机的性能和进展。表明了在高速扫描状态下骞生产徐经的套裁争聚焦桂能黪实现。没液式设备更多耪美键部分与缺陪有关，薅豆该孰鳞改进是通过有生产价值的缺陷水平方面来体现的。为了保持这种缺陷水乎的改进效暴．需要在阕片应用中进行专门稳定的测量。特加是边缘空泡除去(EBR)设计和圆片斜瓣良流线性是很重要的。关键词：浸液式扫描曝光机；套亥l稻聚焦缝能；缺陷改进；污染粒子控翩中图分类号：TN305．7 文献标识码：A andFocusPerformance Defects，Overlay FiveGenerationsofImmersion ExposureSystems Jan de de Mulkens，BobStreefkerk，HansJasper,JosKlerk,Fred Jong， LeonLevasierand Leenders。 Martijn NetherlandsB．V．DeRun DR (ASML 6501，5504Veldhoven，The Netllerlands) Abstract：Thisdiscussesthecurrent andtheevolutionoffive paper performance generations TWINSCANimmersion tools．Itisshown that andfocus scanningexposure productionworthyoverlay Canbeachievedat more for critical immersiontoolsisrelated performance hi．gh蚴speeds。Thepart to alsohere resultedin defectlevels．Into