应烧结碳化硅反射镜表面改性技术.pdf

第 36 卷第 1 期 光电工程 Vol.36, No.1 2009 年 1 月 Opto-Electronic Engineering Jan, 2009 文章编号：1003-501X(2009)01-0120-05 反应烧结碳化硅反射镜表面改性技术 1,2 1 1,2 徐领娣 ，张学军 ，王 旭 ( 1. 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，长春 130031; 2. 中国科学院研究生院，北京 100039 ) 摘要：为了解决新型优质光学材料—反应烧结碳化硅(RB-SiC) 由SiC和Si两相结构引起的光学表面缺陷问题，提出 了反射镜表面改性方案并且从加工工艺的角度介绍了改性工艺流程。以空间反射镜的使用环境为依据，对几种适 用的RB-SiC改性材料进行了较为全面的分析比较。本文采用新的离子辅助沉积碳化硅(IAD-SiC)材料为改性层，对 改性层的表面形貌及部分性能进行了测试，证明IAD-SiC膜层能够满足改性要求。在厚度为(6±0.5) µm 的IAD-SiC 膜层表面进行了一系列抛光工艺实验，文中给出了超光滑表面抛光工艺参数和实验结果。对改性层进行精抛光后， 100 mm口径样片的面形精度为0.033λ RMS(λ=632.8 nm) ，表面粗糙度优于0.5 nm RMS。结果表明，本方法不仅可 以很大程度提高元件表面质量，还可以进一步精修面形，为超光滑、低散射RB-SiC反射镜的加工提供了一条可行 途径。 关键词：反应烧结碳化硅；表面改性；表面粗糙度；离子辅助沉积碳化硅；超光滑表面 中图分类号：TQ171.6 文献标志码：A Surface Coating Technique of Reaction Bonded SiC Mirrors 1,2 1 1,2 XU Ling-di ，ZHANG Xue-jun ，WANG Xu ( 1. Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun 130031, China ; 2. Graduate School of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100039, China ) Abstract : Recently, Reaction Bonded–SiC (RB-SiC) has become the most promising space mirror material due to its superior mechanical, thermal and physical properties. But surface roughness of polished RB-SiC is limited by the Si/SiC two phase structure of the material. To solve this problem, a kind of surface coating technique was introduced to obtain