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第4章 习题
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1. 一扩散的p-n硅结在p侧为线性缓变结,其a=1019cm-4,而n侧为均匀掺杂,浓度为3×1014cm-3,如果在零偏压时,p侧耗尽区宽度为0.8μm,找出在零偏压时的总耗尽区宽度,内建电势和最大电场。
由已知条件,可得p侧耗尽区边缘的杂质浓度为:
axp=0.8×10-4cm×1019cm-4 =8×1014cm-3,
根据空间电荷区电荷的电中性条件,有
Naxp/2=NDxn
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因此,总的耗尽层宽度为1.067+0.8=1.867μm
根据泊松方程
对于n型半导体一侧,有
可得,n侧耗尽层宽度为:
xn=1.067μm
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对于p型半导体一侧,有
因此,内建电势为:
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4. 决定符合下列p-n硅结规格的n型掺杂浓度:NA=1018cm-3,且VR=30V, T=300K, Emax=4×105V/cm.
解:
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由于VRVbi,所以
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5. 一突变p-n结在轻掺杂n侧的掺杂浓度为1015cm-3,1016cm-3和1017cm-3,而重掺杂p侧为1019cm-3,求出一系列的1/C2对V的曲线,其中V的范围从-4V到0V, 以0.5V为间距,对于这些曲线的斜率及电压轴的交点给出注释。
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曲线的斜率反比于掺杂浓度,曲线的截距给出p-n结的内建电势。
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6. 线性缓变硅结,其掺杂梯度为1020cm-4,计算内建电势及4V反向偏压的结电容(T=300K)。
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10. 在T=300K,计算理想p-n结二极管在反向偏压达到95%的反向饱和电流值时,需要外加的反向电压。
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11. 设计一硅p-n二极管,使得在Va=0.7V时,Jn=25A/cm2和Jp=7A/cm2。其他参数如下:ni=9.65×109cm-3,Dn=21cm2/sec, Dp=10cm2/sec, τp0=τn0=5×10-7sec.
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同理
因此,我们可以设计一个p-n结二极管,其NA=5.278×1016 cm-3, ND=5.2×1015cm-3.
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解:假定在τp=τn=10-6s时,Dn=21cm2/s, Dp=10cm2/s
12. 一理想硅p-n二极管,ND=1018cm-3,NA=1016cm-3,τp=τn=10-6s,且器件面积为1.2×10-5cm2.
计算在300K,饱和电流的理论值;
计算在±0.7V时的正向和反向电流。
(a) 由饱和电流密度的公式
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解:由题意知,如果忽略产生-复合电流的影响,则
17. 设计一p+-n硅突变结二极管,其反向击穿电压为130V,且正向偏压电流在Va=0.7V时为2.2mA. 假设τpo=10-7s.
设二极管的截面积为A,则
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