基于透反式二维绝对零位光栅的光刻对准技术.PDF

维普资讯 第37卷第3期 中 国 神 孽 艘 求 大 誊 辱 取 Vo1．37，No．3 2007年 3月 JOURNALOFUNIVERSITYOFSCI EAND TECHNOLOGYOFCHINA Mar．2007 文章编号：0253—2778(2007)03—0264—04 基于透反式二维绝对零位光栅的光刻对准技术 叶锡标，周成刚，张 阳，黄文浩 (中国科学技术大学精密机械与精密仪器系，安徽合肥 230026) 摘要：在二维零位光栅原理的基础上提出了一种透反式二维零位光栅系统，从理论上分析了系统的 可行性，并进行 了对准性能的试验．实验数据表明透反式光栅系统比一般的光刻对准技术的对比度 更强，判别零位的性能更好．该系统作为一种新型的掩模一硅片对准技术，应用于光刻机中可获得优 于2Onm的定位对准精度． 关键词：透反式二维零位光栅；光