表面与界面物理第二章.pdf

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表面与界面物理第二章

2012-09-20 2012研究生讲义 表面与界面物理 表面与界面物理 SURFACE  INTERFACE PHYSICS 邓 宏 DENG HONG 电子科技大学 微电子与固体电子学院 SCHOOL OF MICROELECTRONICS  SOLID STATE ELECTRONICS 第二章 表面与界面的原子结构 本章主要介绍表面、界面区的原子排列和分布特征 表面:清洁表面、实际表面和粉体表面; 界面:晶粒间界、相界、交界面和内表面。 表面的定义是根据研究的角度不同而不同的: 从原子排列的角度从原子排列的角度::100100Å;; 从化学组成的角度:数μm; 从晶格畸变的角度:数十μm。 1 2012-09-20 表面、界面的定义和研究意义 1. 表面的定义 质 性 界面过度区 相 • 两种不同相的交界区域 A相 • 两种不同相的交界区域 称为表面。—— 通常指 凝聚相与气相、液相的 B相 界面。 • 表面不是几何意义上的 平面,而是具有一定厚 度的过度区度的过度区。 距离距离 界面过度区示意图 2 2012-09-20 表面的特殊性质 自然界中许多表面积(A)与体积(V)之比大 的系统都具有十分独特的特征的系统都具有十分独特的特征。。如人的大脑如人的大脑A/VA/V 比大于猿7倍,因此人类的智商远高于猿类。树 叶的A/V比越大,越有利于光和作用。IC的A/V 比越大,集成程度越高,运算速度越快。催化剂 的A/V比越大,活性越高。 对高分散的体系,除用A/V比这个参数外,还常 用分散度(D)的概念。分散度(D)=表面上 的原子数/样品中的原子总数(D≤1) §2-1清洁表面 1.清洁表面的定义:清洁表面是指反映材料本征 特性的表面特性的表面。它应当是在除去吸附层它应当是在除去吸附层、氧化层氧化层、 表面损伤层后的表面。清洁表面是只能在高真空 环境下依存的表面。 1. 清洁表面的获取 1) 高真空解理:常将予制的试样在高真空环境下,利用剪切力和拉 力将其折断,这个折断表面,可以认为是清洁的表面。如果这个折断面 是沿着晶面方向断裂的是沿着晶面方向断裂的,称为解理断裂称为解理断裂。 2) 真空加热法:常规清洗后,在真空中解吸、排气、除去挥发物, 通过加热促使表面污染物的去除。 3) 离子溅射:采用离子轰击,去除表面污染物。 4) 蒸发沉积:在高真空条件下,将试样蒸发沉积在基片表面,形成 高清洁度的原子量级清洁表面。 3 2012-09-20 一、 表面缺陷 如果进一步对台阶进行观察,可以发现台阶也并 非平面,而是由若干个阶梯(Steps)重叠而成。 表面上有平台表面上有平台 ((Tee

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