第二章半导体器件基础课件.pptVIP

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第二章半导体器件基础课件

(2)如果ui为幅度±4V的交流三角波,波形如图(b)所示,分别采用理想二极管等效电路、考虑正向压降的等效电路分析电路并画出相应的输出电压波形。 解:①采用理想二极管等效电路分析。波形如图所示。 0 -4V 4V ui t 2V 2V uo t 0 2.7V uo t 0 -4V 4V ui t 2.7V ②采用考虑正向压降的等效电路分析,波形如图所示。 稳压二极管 变容二极管 发光二极管 光电二极管 肖特基二极管 光电池 8 特种 二极管 光电池做成的便携式冰箱 半导体三极管,也叫晶体三极管。由于工作时,多数载流子和少数载流子都参与运行,因此,还被称为双极型晶体管(Bipolar Junction Transistor,简称BJT)。 BJT是由两个PN结组成的。 三 半导体三极管 * 1 半导体三极管的基本结构 NPN型 PNP型 符号: 三极管的结构特点: (1)基区要制造得很薄且浓度很低。 (2)发射区的掺杂浓度>>集电区掺杂浓度。 (3)集电区面积大,以利于收集载流子 - - N N P 发射区 集电区 基区 发射结 集电结 e c b 发射极 集电极 基极 - - P P N 发射区 集电区 基区 发射结 集电结 e c b 发射极 集电极 基极 2 三极管的电流放大原理(NPN管) 三极管在工作时要加上适当的直流偏置电压。 若在放大工作状态: 发射结正偏: + UCE - + UBE - + UCB - 集电结反偏: 由VBB保证 由VCC、 VBB保证 UCB=UCE - UBE 0 共发射极接法 c区 b区 e区 * (1)因为发射结正偏,所以发射区向基区注入电子 ,形成了扩散电流IEN 。同时从基区向发射区也有空穴的扩散运动,形成的电流为IEP。但其数量小,可忽略。 所以发射极电流I E ≈ I EN 。 (2)发射区的电子注入基区后,变成了少数载流子。少部分遇到的空穴复合掉,形成IBN。所以基极电流I B ≈ I BN 。大部分到达了集电区的边缘。 BJT内部的载流子传输过程 (3)因为集电结反偏,收集扩散到集电区边缘的电子,形成电流ICN 。 另外,集电结区的少子形成漂移电流ICBO。 3 三极管的特性曲线 (1) 输入特性曲线 iB=f(uBE)? uCE=const (1)uCE=0V时,相当于两个PN结并联。 (3)uCE ≥1V再增加时,曲线右移很不明显。 (2)当uCE=1V时, 集电结已进入反偏状态,开始收集电子,所以基区复合减少, 在同一uBE 电压下,iB 减小。特性曲线将向右稍微移动一些。 死区电压 硅 0.5V 锗 0.1V 导通压降 硅 0.7V 锗 0.3V (2)输出特性曲线 iC=f(uCE)? iB=const 现以iB=60uA一条加以说明。 (1)当uCE=0 V时,因集电极无收集作用,iC=0。 (2) uCE ↑ → Ic ↑ 。 (3) 当uCE >1V后,收集电子的能力足够强。这时,发射到基区的电子都被集电极收集,形成iC。所以uCE再增加,iC基本保持不变。 同理,可作出iB=其他值的曲线。 输出特性曲线可以分为三个区域: 饱和区——iC受uCE显著控制的区域,该区域内uCE<0.7 V。 此时发射结正偏,集电结也正偏。 截止区——iC接近零的区域,相当iB=0的曲线的下方。 此时,发射结反偏,集电结反偏。 放大区—— 曲线基本平行等 距。 此时,发 射结正偏,集电 结反偏。 该区中有: 饱和区 放大区 截止区 4 三极管的主要参数 (1)电流放大系数 (V) CE =20uA (mA) B =40uA I u =0 =80uA I B B B I I B I =100uA C B I =60uA i 一般取20~200之间 共发射极电流放大系数: 静态 动态 (2)极间反向电流 (b)集电极发射极间的穿透电流ICEO 基极开路时,集电极到发射极间的电流——穿透电流 。 其大小与温度有关。 (a)集电极基极间反向饱和电流ICBO 发射极开路时,在其集电结上加

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