真空灭弧室发展分析 analysis of development about vacuum interrupter.pdfVIP

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2017-08-18 发布于上海
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真空灭弧室发展分析 analysis of development about vacuum interrupter

第42卷第5期京届圣z V01．42No．5 2006年10月 ’375· HighVohageApparatus 0ct．2006 文章编号：1001—1609(2006)05—0375-04 真空灭弧室发展分析刘顺新，丛吉远，廖敏夫，董华军 (大连理工大学，辽宁大连116024) of aboutVacuum AnalysisDevelopment Interrupter LIU Shun。xin，CONG Min。fu，DONG Ji—yuan，LIAO Hua-jun (Dalian of 1 16024，China) UniversityTechnology，Dalian 弧室发展的4个关键技术：触头材料、电弧控制系统、灭弧室展趋势作了介绍。关键词：真空灭弧室；触头材料；电弧控制系统发现真空中金属蒸汽电弧特性．认为真空在开断高中图分类号：‘FM561 文献标识码：A 电压大电流方面是一种完美的介质：并成功地在 Abs‘。acts：Vacuum inth8 int。rrup‘。。isa“imponantpart 41kV下开断了926A的工频交流电流．于1926年 field。‘vacuumswitch．1n‘“i8 hist。ry paper，medeVel。ping 公布了研究结果。虽然真空灭弧室的概念和原理相 and‘heCUrrentsi‘ua“。nof‘“eVacuum areex一 intetTupter 对简单．但设计的每一个方面以及制造都需要仔细地 de- non“dlm8刑ple㈨1a11macm陀，帆analyzed．仆¨小m 技术得到了较大发展。例如材料科学、真空技术等。 01”80“um ”810pm8n‘‘。“08n。7 1n‘。舢p‘8。“also d．iscussed． 1966年，英国成功开发了15，25kA和31．5kA的真 w0。ds：vacuum Key 1n：8肿9k。；comac‘眦把nal；空灭弧室，从此，真空灭弧室正式开始为电力工业服 8m。。“‘m1 575‘8m8 000 务。到目前为止，额定电流已达到4 A，如合理 168 …，随妻鬯粤穹量歪吁繁棼t大鬯譬粤压等罂鬯虿吁 kV的水平，开断电流能力最高可达i00kA。日提蔓：翌只l电|力至统的孽制翌堡护紫开关设备提皇本对纵向磁疡菇构真空灭弧室的研究已在实趋室 12 了萼尊刻的要求，真空开善以高真空作为灭弧背警缘 kV条件下．开断了200kA。坌要，壁头皇灭罂季统学姜。，墨复孽用亨命警，警修粤