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腔内填充低Z物质对腔内壁运动的影响

 第 11 卷 第 4 期 强 激 光 与 粒 子 束 . 11, . 4  V o l N o  1999 年 8 月 H IGH POW ER LA SER AND PA R T ICL E BEAM S A ug. , 1999  ( ) 文章编号:  1001—4322 1999 04—0461—04 腔内填充低 Z 物质对腔内壁运动的影响 张 钧 (北京应用物理与计算数学研究所, 北京 8009 信箱, 100088) )   摘 要:  为创造腔内均匀、干净的辐射场, 用解析方法研究了腔内填充低 Z 介质的方法 防止腔壁重元素喷射到腔内的设计思想。简化模型给出的物理图象清楚显示, 该方法是一种好 的设计思想。给出了在腔内填充 0. 1、1 和 10 个大气压的氦气和各种温度状态下, 腔壁内界面 的运动速度。   关键词:  激光腔靶设计;  激光腔靶物理;  腔靶辐射场   中图分类号:  TL 6321    文献标识码:  A   在腔靶设计中, 希望创造干净, 均匀的辐射场, 使放置在中心的聚变靶丸能实现均匀的球 形内爆。可是在腔靶实验中采用的激光束总是有限数目的, 因而当激光直接打到腔靶内壁的某 一些位置后, 激光产生的X 光在腔靶内壁表面的分布是很不均匀的。希望通过输运过程, 让靶 丸周围的辐射场变得十分均匀。为达到此目标, 在腔靶设计中需要做很多非常细致的工作。   影响辐射场均匀性的因素很多, 如激光烧蚀产生的等离子体向腔内膨胀, 这部分等离子体 具有低密度高速度, 尽管密度很低, 但都是高 Z 介质。因此对通过它的激光有较强的吸收能 力, 使到达临界面附近的激光能量减少; 辐射烧蚀产生的等离子体也向腔内膨胀, 这部分等离 子体具有较高的密度和较低的速度。这些等离子体一方面可能影响靶丸周围辐射场的均匀性, 另一方面可能影响激光进入腔内的光路。还有激光产生的X 光由于从激光入射孔的漏失, 造 成腔内X 光强度空间分布的不均匀性。因此需要调整激光入射的角度、在腔靶内壁表面着陆 的位置以及激光束的整体布局等。像美国利弗莫尔实验室设计的点火靶, 为了阻止烧蚀产生的 [ 1 ] 等离子体向腔内喷射, 在腔体内填充不同气压的惰性气体 。这种设计一方面改善了靶丸周围 的环境, 另一方面也避免了膨胀的等离子体影响激光的光路。腔内填充物质对腔壁运动的影响 是一个很复杂的物理问题, 细致描述需要采用复杂的辐射流体力学和激光传播方程的数值模 拟研究。我们采用一种简化物理模型, 用解析的方法研究在填充气体氦的情况下腔壁内表面的 运动特性, 但对填充其它气体的情况同样是适用的。 1 物理模型   假定流体是一维平面几何; 激光或辐射烧蚀形成的等离子体与腔内填充物质处于等温状 态。腔壁由金材料构成, 腔内填充物是氦气、塑料( ) 、或氢化锂( 7 ) 等低 元素构成的 CH L i H Z 单质物质或化合物。   在等温烧蚀的情况下, 轻重流体的交界面犹如活塞似的, 重流体推动轻流体向轻流体一侧 运动。从该接触间断面作间断分解可知, 在轻介质中将产生一个冲击波, 而在重介质中将进入 ( ) 一个稀疏波, 在时空图上可画出所产生的波系图 见图 1 。接触间断面F 右侧是重介质, 左侧 国家863 惯性约束聚变领域资助课题 1999 年 2 月 23 日收到原稿, 1999 年 5 月

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