光电子技术第二章.docxVIP

第2章 光辐射的调制光辐射调制是用数字或模拟信号改变光波波形的幅度、频率或相位的过程。在光通信系统中，需要把声音、图像、数据信息加载到光波上进行传输，在接收端再从调制光波中解调出所需信息。在光电检测、控制系统中，使入射探测对象的光通量以一定的频率变化（振幅调制），可以比非调制光具有更高的抗干扰能力。 光辐射的调制方法有内调制和外调制。内调制即是前面讨论过的LD和LED的直接调制。直接调制技术具有简单、经济、容易实现等优点。但是，在高速光通信系统或密集波分复用系统中，直接调制带来的频率啁啾却会造成很大的危害。因此，需要将光源与调制器分开设立，即光源的发光是稳定的，调制器设在光源之外，这就是外调制，如图2.1所示。外调制技术不仅适用于LD、LED，也适用于其他光源。外调制中比较简单易行的时机械调制，常用于光电检测中需要抗干扰的场合。而在光通信系统、光信息设备中需要高性能的外调制器，比较成熟的有电光调制、声光调制、磁光调制等。2.1机械调制图2.2所示为测量液体浓度的装置。光源1发出的光通过盘2上的孔，通过容器4中的溶液，射入光电探测器5。液体浓度越大，光电探测器上接收到的光越弱，测量仪表7上读出的浓度值越大。探测器5征往受到杂散光的干扰，如不能排除干扰就不能准确测量。使电动机3带动盘2匀速旋转，盘2上的孔等间隔分布，这样，入射溶液的光即成为调制光，其调制频率f=nm/ 60，式中，n是电动机每分钟的转数，m是盘上分布的孔数。图2.3给出了探测器5输出的光电流分布。背景电流是杂散光造成的，方波电流是透过溶液的调制光的信号。设计有源带通滤波器6，使其中心频率f0=nm/ 60，该频率应是明显区别于杂散光的频率，通频带窄，使得杂散光信号被滤去，方波信号被分选出来。由方波幅度可得出准确的溶液浓度。可见，要克服杂散光的干扰，需要利用调制光并配上合适的有源带通滤波器。图2.4给出了一种有源带通滤波器电路。 图2.2中电动机带动盘2匀速旋转，就是一种机械调制装置。图2.5还展示出一些其他机械调制的例子。 图2.5(a)所示是一个带有黑白相间的扇形的圆盘，白色为透明部分，黑色部分挡光。当盘旋转时，通过盘的光脉冲周期性地变化。如果光源聚焦在盘上成一极小的圆，如M点，则通过盘的光脉冲为矩形波。如果光源在盘上的像较大，如N点的圆，则盘旋转时，黑色的扇形逐渐遮盖光斑，通过盘的光通量近似正弦地变化。如欲得到调制线光源，如图2.5(b)所示，可把线光源1放在鼓2的中心，在鼓的表面上有相隔等距离的狭缝3，鼓的前面放置缝隙光阑4。当空心鼓旋转时，即可得到线状的调制光。图2.5(a)所示是靠机械振动遮断先通量进行调制的。当激磁线圈3通电后，振动衔铁1被磁化。当线圈中通以交流电时，衔铁上端的磁化极性亦随电流方向的变化而变化。在永久磁铁2（固定不动）的磁场作用下，衔铁l在永久磁铁2的N、S两极间振动。振动频率由线圈3中的交流电源频率决定。衔铁的一端通过簧片4固定于底座5，另一端安装一小旗6。小旗的位置处于聚光透镜的焦点附近，当衔铁振动时，光通量被断续地遮断。 图2.5(d)所示的装置中，光源l发出的光通量经同步电动机3带动的半盘形镜子2后，分成两支光束Φ1和Φ2。光束Φ1通过充以被测试液体的液槽4后，到达光电器件5；光束Φ2经反射镜6、光楔7及反射镜8到达光电器件5。光束Φ1和Φ2照射光电器件的时间各占总时间的一半，它们的频率由电动机的转速决定。根据光电器件5的输出信号的性能，可以比较Φ1、Φ2而得到被测量，且排除了干扰。2.2 电光调制一、电光效应在外加强电场的作用下，本来是各向同性的介质也可以产生双折射现象，而本来有双折射性质的晶体，它的双折射性质也要发生变化，这就是电光效应。折射率的改变与所加外电场的大小成正比的电光效应称为线性电光效应（一次电光效应）或泡克尔斯效应( Pockels)，只有那些不具有对称中心的晶体才能产生线性电光效应，如KDP类晶体、铌酸锂晶体(LiNb03)等。一些光学上各向同性的晶体、液体或气体，如钛酸钡( BaTi03)晶体、硝基苯液瘁，在强电场作用下会变成光学各向异性体，且外加电场引起的折射率的改变与电场强度的平方成正比。这种电光效应称为二次电光效应或克尔( Kerr)效应。利用线性电光效应可以方便地实现对光辐射的调制。下面以KDP晶体为例介绍这种效应。1．γ63的纵向电光效应KDP晶体是负单轴晶体，其外形如图2.6(a)所示。两端正四棱锥顶点的联线为光轴方向（z轴）。将晶体切成长方体，则两个正方形的端面与光轴垂直。这种切割方式称为z切。 在两个正方形的端面施加电压，则电场E平行于z轴。在E的作用下，KDP由负单轴晶体变成双轴晶体，其x轴、y轴沿正方形的对角线方专，如图2.6(b)所示。 与x