投影光刻中非对称型相位光栅对准信号及对准误差计算模型 model for the calculation of alignment signal and alignment error of the asymmetric alignment mark of phase grating in the projection lithography.pdfVIP

团口 光刻技术与设备鱼 投影光刻中非对称型相位光栅对准 信号及对准误差计算模型 戈亚萍 (上海微高精密机械工程有限公司，上海 201203) 摘 要 ：在半导体投影光刻机 中，对 因工艺处理产生的非对称型相位光栅对准标记作 了详细分 析 ，提 出了关于衍射效率、对准信号及对准误差的计算模型，并着重分析 了CMP型对准标记和金 属淀积型标记的相应特点。 关键词 ：相位光栅 ；非对称型对准标记 ；衍射效率 ；对准信号 ；对准误差 中图分类号 ：TN305．7 文献标识码 ：A 文章编号 ：1004．4507(2012)05．0019．05 M odelfortheCalculationofAlignmentSignalandAlignment ErroroftheAsymmetricAlignmentM arkofPhaseGrating intheProjectionLithography GE Yaping (ShanghaiNanpreMechanicsCO．LTD，Shanghai，201203) Abstract：ThispaperstudiestheasymmetricalignmentmarkofphasegratinginducedbyICprocessin theprojectionlithorgaphyandbuildsacalculationmodelofthediffiactiveefficiency，alignmentsingal andaligrmaenterrorsoftheasymmetricmark，especiallyanalyzesthataboutCMPmarkandmetal depositedmark． Keywords： phase rgating；asymmetric alignment mark；diffractive efficiency；alingment singal； aling menterror 相位光栅对准的方法因较其他 明场或暗场读 强分布 ： 准具备信噪比高、对准精度好等优点，因此被广泛 用于半导体投影光刻机 中。参考文献[1]详细描述 I~14 R．sin2(音 竹‘)．sin2(订}‘)(1) 了投影光刻机 中相位光栅对准系统，给出了对称 图 1为对称型相位光栅对准标记 的形貌 ，式 型矩形相位光栅的±1级衍射 Fourier变换后的光 (1)中r为 占空比，即相位光栅标记顶部与底部的 收稿 日期 ：2012．04—28 万方数据 光刻技术与设备 电 子 工 业 毫 用 设 备 - 宽度比；厶为入射光信号强度； 为对准标记光反 型，图中h为槽深，Ah和U为倾斜部分的深度和 射率；d为槽深 。 宽度 ，为顶部宽度，P为光栅周期 。 图 1对称 型相位光栅对准标记 的形貌 透过参考光栅的±n级对准信号为： 对准激光器输出激光光束通过硅片或工件台 n) 21[1+ ．cos(4竹 + n)] (2) 反射型相位光栅后，其衍射光束应满足光栅方程： 式 (2)中，I(x， )为对准信号；P为相位光栅 psin0．=nA (4) 周期； 为相位光栅对准标记表面上的位置坐标； 其中，A是激光光束波长，P是光栅周期，0是 为 ± 级衍