负离子元素杂质破坏模型.PDFVIP

第 55 卷 第 4 期 2006 年 4 月 物 　理 　学 　报 Vol. 55 ,No. 4 ,April ,2006 ( ) 10003290200655 04 198704 ACTA PHYSICA SINICA 2006 Chin. Phys. Soc. 负离子元素杂质破坏模型 ) ) ) ) 吴师岗1 2 　邵建达1 　范正修1 1) ( 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海　201800) 2) ( 中国科学院研究生院,北京　100039) ( ) 2005 年 6 月 16 日收到;2005 年 10 月 28 日收到修改稿 　　探讨了 HfO2 薄膜中负离子元素杂质破坏模型 ,并得出薄膜中的杂质主要来源于镀膜材料. 用电子束蒸发方 法沉积两种不同 Cl 元素含量的 HfO2 薄膜 ,测定薄膜弱吸收和损伤阈值来验证负离子元素破坏模型. 结果表明 ,随 着 Cl 元素含量的增加薄膜的弱吸收增加损伤阈值减小. 这主要是因为负离子元素在蒸发过程中形成挥发性的气 源中心而产生缺陷 ,缺陷在激光辐照过程中又形成吸收中心. 因此负离子元素的存在将加速薄膜的破坏. 关键词 : 负离子元素杂质 , 缺陷 , 吸收 PACC : 7155 , 8115G, 8110B 从而使材料熔融甚至汽化 ,这就会在材料中出现大 1 引 言 量非连续的损毁区域. 文献[11 ]得出了薄膜材料和 杂质的温升. HfO2 镀膜材料具有折射率高、吸收系数低、良 目前研究人员采取了多种方式来减少薄膜中的 好的热稳定性和机械强度以及高的抗激光损伤特 杂质 ,但主要集中在薄膜本身 ,如退火[12 ,13 ] 和激光预 性 ,成为目前优选的激光薄膜镀膜材料[1 ,2 ] . 但是杂 处理[14 ] 等. 我们认为探寻薄膜中杂质的起源比改善 质的存在会影响光学薄膜的机械和光学性能 ,尤其 薄膜的性能更有效 ,所以将我们的研究方向集中在 是严重降低薄膜的激光损伤阈值[3 ,4 ] . 杂质会比周 寻求薄膜中杂质的起源上. 薄膜中杂质的来源主要 围物质具有更高的吸收特性从而成为薄膜中的吸收 是膜料中引入的杂质、基片表面的残余物以及镀膜 中心 ,在激光作用的情况下杂质以及杂质周围热量 过程真空室的污染. 在制备过程和操作过程一定的 迅速积累 ,温度上升 ,导致薄膜熔融、汽化以及应力 情况下 ,我们认为薄膜中的杂质主要是从膜料中引 破坏[5 ] ,最终导致薄膜的损毁. 入的. 因此有必要对膜料中的元素进行分析 ,找出 国外对光学薄膜中杂质的破坏理论研究有很 影响薄膜性能的主要杂质. 多[6 —9 ] ,其中最著名的是球形杂质模型[5 ] . 通常认为 光学薄膜中的杂质主要