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基于吸收系数修正的硅片激光弯曲模拟与试验-光学精密工程
第 卷 第 期 光学 精密工程
16 10
Vol.16 No.10
O ticsandPrecisionEnineerin
年 月 p g g
2008 10 Oct.2008
文章编号 ( )
1004924X200810192808
基于吸收系数修正的硅片激光弯曲模拟与实验
王续跃,胡亚峰,许卫星,吴东江
(大连理工大学 精密与特种加工教育部重点实验室,辽宁 大连 116024)
摘要:考虑热吸收系数随温度变化的因素,以硅为对象进行了激光弯曲模拟和实验。借助APDL语言编写了激光弯曲成
形的仿真程序,对单脉冲作用过程进行模拟,以得到单点脉冲周期内的温度分布;采用 / 合金薄膜热电偶对单
NiCrNiSi
脉冲作用过程中的温度分布进行测量,对比上述的温度模拟与测量结果,修正硅材料的激光综合吸收系数为 0.82。采
用有限元分析软件实现了硅片的脉冲激光弯曲成形的仿真和模拟,并对硅片多次连续扫描的弯曲模拟与弯曲实验进行
对比,误差仅为 0.1°,验证了仿真程序的有效性,为硅片的激光弯曲成形提供了理论与实验依据。
关 键 词:激光弯曲;吸收系数;脉冲激光;硅片
中图分类号: ; 文献标识码:
TN249TN305 A
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