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小光区大修边准分子激光角膜上皮下磨镶术治疗高度 近视合并薄角膜患者的临床观察.doc

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小光区大修边准分子激光角膜上皮下磨镶术治疗高度 近视合并薄角膜患者的临床观察.doc

  小光区大修边准分子激光角膜上皮下磨镶术治疗高度 近视合并薄角膜患者的临床观察 :徐文烽,宋玉伟,刘曦,戢红,谭洪 【摘要】 目的 观察小光区大修边准分子激光角膜上皮下磨镶术(LASEK) 治疗 薄角膜合并高度近视患者的疗效。 方法 选择角膜厚度薄、屈光度高且不能行LASIK手术的患者共39例(78眼)行小光区大修边LASEK手术,观察术后3天、10天、1个月、2个月、3个月、6个月和1年的症状、视力、屈光度、Haze、地形图及像差等情况。 结果 术眼疼痛70.27%;干眼症16.4%;地形图显示无圆锥角膜;低阶像差明显降低,高阶像差增加100.04%;Haze 6.8%,主要为0.5级,对视力无明显影响。 结论 对角膜厚度薄合并高度屈光不正的患者,该手术是一种安全有效的手术方法。 【关键词】 准分子激光;上皮下磨镶术;近视;光学区;角膜厚度 [Abstract] Objective To observe the effect of small optical zone and big transition zone laser subepithelial keratomileusis(LASEK) in the treatment of high myopia ptoms,visual acuity,refraction,Haze,corneal topography,astigmation and so on onth,2 months,3 months,6 months and 1 year after LASEK. Results Postoperative pain ost 0.5 grade and had no effect for visual acuity. Conclusion LASEK is a vailable operation in the treatment of high myopia er laser;subepithelial keratomileusis;myopia;optical zone;corneal thickenss 在屈光手术越来越普及的今天,虽然绝大部分屈光手术患者都能通过行LASIK及LASEK手术解决其近视问题,但也有部分患者由于其屈光度高且角膜薄,行LASIK及常规LASEK手术也不能完全矫正。对此我科于2004年7月~2006年7月采用小光学区、大修边的LASEK手术治疗该部分患者39例(78眼),取得了满意疗效,现将观察结果报告如下。 1 资料与方法 1.1 病例选择 2004年7月~2006年7月我院行LASEK治疗高屈光度薄角膜患者39例(78眼),连续随访达到1年的患者37例(74眼),年龄18~40岁,平均25.36岁;男11例(22眼),女26例(52眼);近视度数3.50D~17.75D(9.13±3.89D),散光度数0.75~5.50D(在统计中按等值球镜 计算 );角膜厚度430~556 μm(486±36.45 μm);BCVA≥0.5。 术前检查:检影验光,裂隙灯,检眼镜,眼压,角膜测厚,OPDScan检查角膜地形图、像差等。 1.2 手术方法 Massimo Camellin MD上皮刀制作圆形角膜上皮瓣,采用NIDEK EC5000准分子激光机,光学区3~3.5 mm,修边半径7~8 mm,切削后将上皮瓣复位,戴0.5D高透氧软性角膜接触镜。术后使用爱尔卡因与妥布霉素眼液3天,以后滴用0.1%艾氟龙眼液1~6个月。 1.3 术后随访 观察术后3天、10天、1个月、2个月、3个月、6个月和1年的症状、视力、屈光度、Haze、眼球像差等。 2 结果 2.1 术后症状 异物感74眼(100%),持续1~3天;疼痛52眼(70.27%),一般持续3~4 h(平均3.2 h),疼痛程度重于LASIK,但较PRK轻。 2.2 手术后屈光变化 术后屈光度变化见表1。 表1 术后屈光度变化 2.3 手术后视力 术后1年内视力变化见表2。表2 术后1年内视力变化 2.4 Haze情况 据我们观察,凡上皮破损处在术后早期均有不同程度的角膜雾状水肿,随着时间的推移而很快透明。在这组病例中,6个月时4眼有0.5级Haze,1眼1级Haze,发生率为6.8%。 2.5 眼球像差 术后主要的像差改变见表3。 表3 术后主要的像差改变 术后低阶像差明显减少(t检验,P<0.001),以Defocus减少为主,垂直Astigma也有所减少,但tilt及水平Astigma增加;高阶像差由0.7123增加到1.453,增加100.04%,增加的像差主要是a及spheric,其他高阶像差的增加或减少在统

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