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高硅na-zsm-5分子筛表面no的常温吸附-氧化机理 - 催化学报.pdfVIP

高硅na-zsm-5分子筛表面no的常温吸附-氧化机理 - 催化学报.pdf

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    文章编号国际版研究论文高硅分子筛表面的常温吸附氧化机理刘华彦张泽凯徐媛媛陈银飞李希浙江大学化学工程与生物工程系浙江杭州浙江工业大学化学工程与材料学院浙江杭州摘要采用程序升温表面反应和原位漫反射红外光谱等手段研究了常温下和在高硅分子筛上吸附氧化反应机理结果表明分子筛上的催化氧化过程中伴随着显著的物理吸附表现为氧化和吸附间的动态平衡分子筛表面吸附物种的和原位表征表明化学吸附的和气相中的在表面反应生成吸附态的并继续与作用生成弱吸附的和它们吸附饱和后释放出来其中强吸附的在氧化过程中起到了反应中间体的作用

    2010 Chinese Journal of Catalysis Vol. 31 No. 10 文章编号: 0253-9837(2010)10-1233-09 国际版 DOI : 10.1016/S1872-2067(10)60117-9 研究论文: 1233~1241

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