PIV实验技术报告.docVIP

2012 年 春 季学期研究生课程考核 （读书报告、研究报告） 考核科目 :现代动力/流体机械实验技术 学生所在院（系） :能源科学与工程学院 学生所在学科 :动力工程及工程热物理 学 生 姓 名 :国成 学 号 :11S002050 学 生 类 别 : 考核结果 阅卷人 PIV技术及其应用 粒子图像测速技术（PIV）是近些年从流场显示技术基础上发展起来的一种崭新的流速测量技术。所谓流场显示是将流场的某些特性进行可视化，从而获得该流场直观的信息。随着计算机图像处理与光学技术等的发展，PIV技术可在同一时刻记录下整个测量平面的相关信息，从而可以获得流动的瞬时平面速度场。 PIV原理 PIV的基本原理是基于最直接的流体速度测量方法。首先在流体中掺入密度与流体相当并具有很好的跟随性的示踪粒子。某一时刻，激光照明流体一次，CCD相机同时拍摄下此时被照亮的粒子图像，另一时刻，激光再照明一次，CCD相机也同时记录一次，发生移动后的示踪粒子图像又被拍摄下来。两个不同时刻的粒子图像被划分成许多“判询域”（积分格），每对判询域进行相关运算，运算得到的结果是一个速度矢量，即一块判询域产生一个速度矢量。成千上万个判询域做相关运算，就产生成千上万个速度矢量，形成矢量场和速度大小的分布。 图1 标准二维PIV系统示意图 上图为标准二维PIV系统示意图。系统的重要硬件组成：脉冲激光源、高速相机（CCD或CMOS）、同步控制器、数据采集（及控制）计算机。主要过程是：示踪粒子（加入被测流动中）；脉冲激光面照亮流场中的待测平面；高速相机采集照亮平面内的示踪粒子图像；数采系统中的软件处理粒子图像获得速度场。 2D PIV系统通常是使观察流场中的速度最快的分量平行于面光源，相机的视场方向在面光源的法线方向上。即使这种摆放设置受实验条件的限制，像光学通道等，安装也不要和理想的垂直摆放有太大的差别，从而尽可能减少系统误差，以便得到更为真实准确的实验结果。 当已知曝光间隔时间Δt=t2-t1后，便可以计算获得粒子在图像上的平均速度ΔV，其原理如图2所示。考虑系统光学放大倍率后，就可以计算出粒子的实际速度。如果Δt很小，则可用该速度近似为粒子在t1时刻位置的瞬时速度。因此，PIV测量得到结果实际上是以平均速度代替瞬时速度，示踪粒子速度代替所在位置的流场速度。 图2 PIV原理 示踪粒子的选择 PIV技术的实现过程是通过在流场中布撒合适的示踪粒子，利用CCD等成像系统获得曝光后的示踪粒子图像，再应用特定软件对图像进行处理与分析，从而获得流场的速度分布情况。因此测试中所使用的示踪粒子的特性对整个PIV系统的测量结果影响非常大，特别在定量测量时更是如此。 合适的示踪粒子尺寸应该能够保证流场测量的精度，PIV示踪粒子须具备以下三个特点： （1）中性漂浮、相对于待测流动现象尺寸足够小，保证好的跟随性。 （2）尺寸足够大，保证有效地散射足够光强。 （2）示踪粒子散射效率还取决于其折射率与被测流体折射率之比。 选择示踪粒子并非绝对的，需要根据研究的介质和问题选择正确的示踪粒子。 选用粒子的一个重要原则是粒子密度应与实验流体密度尽量一致，这样粒子所受浮力与重力互相抵消，粒子仅受流体的粘性力作用。密度小于实验流体时粒子将漂浮在实验流体的表面，达不到跟踪流场的目的；如果密度大于实验流体，由于重力场作用粒子会产生沉降，在重力方向会有分速度，影响测量结果。当示踪粒子密度与被测流体密度不同时，PIV测量误差主要来自重力的影响 一般来说，光经过微小粒子散射的强度是粒子大小、形状、所在位置及粒子折射指数与粒子所在介质（流场）折射指数之比的函数。另外，散射光强还与入射角度和观察角度有关。示踪粒子的表面反射率反映了粒子的成像特性。示踪粒子要具有良好的光反射性，这样成像对比度高，而且在照射激光光强有限时，反射率越高则粒子可成像数目也越多，故能更好显示流场的细节，提高流场测量精度。相对于同一介质，折射率越高的粒子表面反射率也越高，因此最初在粒子材料选择时可选取折射率高的材料。 对于PIV全场测速讲，只有粒子存在才能测速，没有粒子的区域，该区域也就没法测得速度，因而要求全场均匀布撒粒子，才能保证全流场都能测得速度。如果粒子浓度太高，实际记录在底片上的不是粒子图像，而是粒子群的散斑图像及其散斑图像的位移，并称为激光散斑测速技术。如果流场中的粒子浓度很稀，在确定粒子位移时常常采用单个粒子的识别和跟踪方法，一个一个确定该粒子的速度，称为粒子跟踪测速技术。在一定片光厚度、放大率下，其粒子浓度可表示为 式中n为判询域的粒子对数，一般应为n=4