对向靶磁控溅射纳米氧化钒薄膜的热氧化处理-天津大学期刊中心.PDFVIP

第 42 卷 第 8 期 天 津 大 学 学 报 Vol.42 No.8 2009 年 8 月 Journal of Tianjin University Aug. 2009 ▋ 对向靶磁控溅射纳米氧化钒薄膜的热氧化处理 1,2 1 1 1 梁继然 ，胡 明 ，陈 涛 ，刘志刚 (1. 天津大学电子信息工程学院，天津 300072 ； 2. 中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室，北京 100083) 摘 要 ：采用直流对向靶磁控溅射方法制备低价态纳米氧化钒薄膜，研究热氧化处理温度和时间对氧化钒薄膜的组 分、结构和电阻温度特性的影响．采用 X 射线光电子能谱 (XPS)、X 射线衍射 (XRD)和原子力显微镜 (AFM)对氧化钒 薄膜的组分、结晶结构和微观形貌进行分析，利用热敏感系统对薄膜的电阻温度特性进行测量．结果表明，经 300~ 360,℃热处理后，氧化钒薄膜的组分逐渐由 V2O3 和 VO 向 VO2 转变，薄膜由非晶态变为单斜金红石结构，具有金属半 导体相变性能；增加热处理温度后，颗粒尺寸由 20,nm 增大为 100,nm ，薄膜表面变得致密，阻碍氧与低价态氧化钒的进 一步反应，薄膜内 VO2 组分含量的改变量不大；增加热处理时间后，薄膜内 VO2 组分的含量明显增加，相变幅度超过 2 个数量级． 关键词 ：直流对向靶磁控溅射；纳米氧化钒薄膜；热氧化处理 中图分类号：O484 文献标志码 ：A 文章编号 ：0493-2137 (2009)08-0721-06 Thermal Oxidation Annealing on Nanovanadium Oxide Thin Film Deposited by Direct Current Facing Targets Magnetron Sputtering 1,2 1 1 1 LIANG Ji-ran ，HU Ming ，CHEN Tao ，LIU Zhi-gang (1. School of Electronic Information Engineering，Tianjin University ，Tianjin 300072 ，China ；2. State Key Laboratory on Integrated Optoelectronics ，Institute of Semiconductors ，Chinese Academy of Sciences ，Beijing 100083 ，China) Abstract ：In order to study the effects of thermal oxidation annealing temperature and time on nano vanadium oxide thin films ，low valence vanadium oxide thin films were deposited o