K9基片的亚表面损伤探测及化学腐蚀处理技术研究强激光与粒子束.PDF

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K9基片的亚表面损伤探测及化学腐蚀处理技术研究强激光与粒子束

 第 17 卷  第 9 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol . 17 ,No . 9    2005 年 9 月 H I GH PO W ER L A SER AND PA R T ICL E B EA M S Sep . ,2005   文章编号 :  100 14322 (2005) K9 基片的亚表面损伤探测及 化学腐蚀处理技术研究 1 1 1 1 2 陈 宁 ,  张清华 ,  许  乔 ,  王世健 ,  段利华 ( 1. 成都精密光学工程研究中心, 四川 成都 6 1004 1 ;  2 . 重庆大学 数理学院 物理系, 重庆 400044)   摘  要 :  研究了几种类型的腐蚀液对 K9 基片化学腐蚀的影响 。通过腐蚀液对基片纵向腐蚀速度的变 化初步判断了 K9 基片重沉积层的深度 。考察了腐蚀前后基片表面参数的变化以及腐蚀对激光损伤阈值的影 响 。研究表明 ,特定的腐蚀液能够对 K9 基片进行平稳可控的腐蚀 ,并且腐蚀能提高其激光损伤阈值 ,其主要 原因是去除了重沉积层及表面 、亚表面缺陷中的污染物 ,但过多的腐蚀会暴露本来为重沉积层所掩盖的划痕等 亚表面缺陷 ,所以腐蚀并非越深越好 。同时 ,表面各种杂质与缺陷的去除能够提高材料的机械强度 ,从而也有 利于提高材料的激光损伤阈值 。   关键词 :  化学腐蚀 ;  亚表面缺陷;  激光损伤阈值 ;  重沉积层   中图分类号 :  TN244     文献标识码 :  A   光学元件的损伤问题已成为高功率固体激光装置研制的核心问题 ,而紫外的损伤尤为严重 。国外研究表 明 ,光学元件在其制造过程中形成的元件表面污染和亚表面缺陷是导致紫外损伤的主要根源之一 ,即使是微小 ( μ ) [ 1~3 ] 尺寸的缺陷 直径小于 1 m 也会引起激光损伤 。   如果想避免引起损伤 ,就需要对能导致损伤的主要因素进行识别 。光学元件的制造通常包括锯切 、研磨和 抛光等加工工序 。每一道加工工序都将使表面产生裂纹 ,这些裂纹会深入到表面下一定深度 ,使光学元件产生 亚表面损伤[4 ] 。   从某种意义上说 ,不同的加工工序在亚表面层得到记录 ,光学元件的最终性质均可追溯到不同的加工方 法 。当制造工艺改变时 ,特征亚表面缺陷和损伤机理就发生变化 ,相应地其处理方法也需要改变[ 5 ] 。本文从光 学元件的亚表层结构入手 ,利用化学腐蚀手段剥离重沉积表层 、暴露亚表层的结构 ,探索消除亚表面缺陷的适 宜的腐蚀工艺 ,并且进一步研究不同亚表层结构对损伤的机理影响 。期望通过在不同的制造工艺后 ,用化学腐 ( ) 蚀法对基片进行处理 ,借助于原子力显微镜 A FM 和轮廓仪等手段对亚表面损伤的形貌进行评价 ,掌握经不 同的制造工艺后最适宜的化学腐蚀方法和腐蚀深度 。化学腐蚀的速度随着腐蚀的深度变化是一直变化的 ,我 们将通过腐蚀速度的测量分别探索不同的制造工艺的亚表面损伤深度 ,力求寻找最适宜的化学腐蚀方法和腐 蚀深度 ,通过研究元件的激光损伤阈值评价化学腐蚀处理的效果 。 1  实验条件及方法 1 . 1  腐蚀液的选择   根据对 K9 玻璃成分的分析 ,选择不同种类及浓度 的腐蚀液对 30 mm 和 50 mm 的 K9 基片进行腐蚀试 验 。选择的腐蚀液包括氢氟酸缓冲液 、盐酸与氢氟酸的 混合酸 、醋酸与氢氟酸的混合酸以及氢氧化钾和醋酸两 步腐蚀 。 1 . 2  激光损伤阈值及其它参数的测试   损伤阈值测试系统由N d : YA G 调 Q 激光器 、HeN e

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