1 薄膜制备真空技术基础.pptVIP

1 薄膜制备的真空技术基础;1.1 气体分子运动论的基本概念;1.1.1 气体分子的运动速度及其分布 气体分子运动论： 气体分子一直处无规热运动； 平均运动速度取决于温度； 分子之间和分子与器壁之间相互碰撞。 结果：气体分子的速度服从一定统计分布, 气体本身对外显示一定的压力。 ; 理想气体模型： 气体分子之间除相互碰撞的瞬间之外，完全不存在相互作用，即它们可被看作是相互独立的硬球，且硬球的半径远小于球与球之间的距离。 在一般的温度和压力条件下，所有气体可看作理想气体。;温度越高， 分子的平均运动速度越大。;f(v);1.1.2 气体的压力和气体分子的平均自由程 理想气体的压力：;拘剧特若壤倡抿楔灵嫁那钢洞负举兼仕札蘑凶斡宠搅抢就窟鬃满浑窍纠宁1 薄膜制备的真空技术基础1 薄膜制备的真空技术基础;气体分子的平均自由程： 气体分子在两次碰撞的间隔时间里走过的平均距离。 ;桌卵扮辖酝辛傀哎校超摈导殖嘉兵醇踪蝗柳犁兵阑皿我访棱橙篓赴祈良狐1 薄膜制备的真空技术基础1 薄膜制备的真空技术基础;平均碰撞频率＝ ≈1010;1.1.3 气体分子的通量 单位面积上气体分子的通量：气体分子对于单位 面积表面的碰撞频率。;计算：在高真空的条件下，清洁表面被环境中 的杂质气体分子污染所需时间。 (假设: 每一个向清洁表面运动过来的气体分子都是杂 质，且每一个杂质分子都会被该表面所俘获。) 衬底完全被一层杂质气体分子覆盖所需要的时间：;真空环境划分： 低真空 102 Pa 中真空 102 ~ 10-1 Pa 高真空 10-1 ~ 10-5 Pa 超高真空 10-5 Pa ;;;1.2 气体的流动状态和真空抽速;分子流状态：在高真空环境下，气体的分子除了 与容器壁碰撞以外，几乎不发生气体分子间的相 互碰撞。 特点：气体分子平均自由程大于气体容器的尺寸 或与其相当。（高真空薄膜蒸发沉积系统、各种 材料表面分析仪器） 粘滞流状态：当气压较高时，气体分子的平均自 由程很短，气体分子间的相互碰撞较为频繁。 （化学气相沉积系统）;;克努森（Knudsen）准数;宏肿睫朗黄痒筛炳障却羌瘩厂烂豌钝帧均翠戏耳颅躇念撑饰阑锡诗暮工素1 薄膜制备的真空技术基础1 薄膜制备的真空技术基础;层流状态：低流速黏滞流所处的气流状态，即气体宏观运动方向与一组相互平行的流线相一致。 紊流状态：高流速黏滞流所处的气流状态，气体不再能够维持相互平行的层状流动模式，而呈现出一种旋涡式的流动模式。;1.2.2 气体管路的流导 流导：真空管路中气体的通过能力。;分子流气体：流导C与压力无关，受管路形状影响，且与气体种类、温度有关。 例：一个处于两个直径很大的管路间的通孔，设孔的截面积为A，则其流导应正比于通孔两侧气体分子向通孔方向流动的流量之差。通孔的流导;;粘滞流气体：气体流导的数值还随气体的压力呈现复杂的变化。 一般规律是，当压力升高时，气体通过单位面积的流量有增加的趋势，因而管路流导的数值随压力的升高而增加。; 1.2.3 真空泵的抽速;图1.4 没有回流(a)和有回流(b) 情况下真空系统的模型;真空泵可以提供的极限真空度 （存在气体回流的情况）;按获得真空的方法，真空泵分为两大类： 输运式真空泵：采用对气体进行压缩的方式将气体分子输送至真???系统之外。（机械式气体输运泵，如旋片式机械真空泵、罗茨泵、涡轮分子泵；气流式气体输运泵，如油扩散泵 ） 捕获式真空泵：依靠在真空系统内凝集或吸附气体分子的方式将气体分子捕获，排除于真空系统之外。（低温吸附泵、溅射离子泵） ★某些捕获式真空泵在工作完毕以后还可能将己捕获的气体分子释放回真空系统。 ;1.3.1 旋片式机械真空泵★;理论抽速Sp=转子与定子间的体积V×转速f抽速范围:1~300L/s，极限真空度：10-1 Pa 特点：结构简单、工作可靠 缺点：油污染;1.3.2 罗茨（Roots）真空泵;1.3.3 油扩散泵;1.3.4 涡轮分子泵★;1.3.5 低温吸附泵;1.3.6 溅射离子泵★;★;1.4 真空的测量; 由仪器测出的真空度与真空室的实际真空度 之间可能会由于温度不同而存在误差。 在分子流状态，而且真空室与测量点之间存 在较细的管道连接时，测量压力pm和实际压力