1.NSR的概要.pdfVIP

1. NSR 的概要 1. NSR 的概要 1.1 NSR 的動作原理 NSR 是縮小投影 Reticle 上的図形、以 Step and Repeat 方式、在 Wafer 上曝光的装置。 基本構成如図 1-1 所示。 Reticle Reticle 縮小投影 鏡頭 縮小投影鏡頭 Fiducial mark Wafer XY stage Wafer stage 座標軸 被超高圧水銀灯照明的 Retice 図形、通過縮小投影鏡頭、 180 °回轉後、縮小投影到 Wafer stage 上的 Wafer 之上。 (図 1-2) Wafer 由真空固定在 Wafer stage 上、辺進行 XY 方向移動、辺進行曝光。 Wafer stage 的位置由激光干渉儀高精度地進行管理、可以将 Wafer 正確地移動到曝光位置。 Stage 的座標原点在正対 NSR 右前面的位置、以離開此処的距離決定座標位置。 Stage 上有被称為 Fiducial mark 的基準 Mark 。 使用此 Mark 和激光干渉儀、可以測定 Reticle 或 Wafer Alignment 傳感器的座標位置。 1-1 1. NSR 的概要 1.2 装置構成 1.2.1 NSR 的名称 NSR 的産品名按如下形式取名。 N S R – 2 0 0 5 i 9 C ① ② ③ ④ ⑤ ⑥ ① NSR 為「 Nikon Step and Repeat exposure systems 」的略称。 ② 表示最大曝光範囲。 200 為正方形□ 20.0mm 的曝光範囲。 ③ 表示投影鏡頭的投影倍率。 5 是表示将 Reticle 上的図形以 1/5 倍投影到 Wafer 上。 ④ 表示曝光光波長。 i 是表示使用由超高圧水銀灯発出的光中的 i 線。 ⑤ 表示 NSR 本体的型式名。 此数字越大意味着是越新模型的 NSR 。 ⑥ 表示投影鏡頭的型式。 同様的□ 20mm1/5 倍、使用 i 線的鏡頭中、以 A 或 B 進行区別。 1-2