mg-al合金化学机械抛光中表面状态的研究 study on the surface state of mg-al alloy cmp.pdfVIP

櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶 ： ｄｏｉ １０３９６９／ ｊｉｓｓｎ１００３３５３ｘ２０１００１０１８ ＭｇＡｌ 合金化学机械抛光中表面状态的研究 张研，刘玉岭，牛新环，梁蒲，肖文明，阎宝华 （ ， ， ） 河北工业大学微电子所天津３００１３０ 摘要：化学机械抛光（ ）可以获得高精度、低表面粗糙度和无损伤工件表面，并可实现 ＣＭＰ 。 ， ， 全局平坦化将 技术拓展到 合金表面加工中研究了 合金化学机械抛光机理 ＣＭＰ ＭｇＡｌ ＭｇＡｌ 分析了 合金化学机械抛光中 值、压力、流量、转速等参数对 合金表面状态的影 ＭｇＡｌ ｐＨ