莫尔条纹分析及其在光刻对准中的应用 the analysis of moiré fringes and application on the alignment of lithography.pdfVIP

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2017-08-22 发布于上海
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莫尔条纹分析及其在光刻对准中的应用 the analysis of moiré fringes and application on the alignment of lithography.pdf

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莫尔条纹分析及其在光刻对准中的应用 the analysis of moiré fringes and application on the alignment of lithography

第37卷第7期光电工程 V01．37，No．7 2010年7月 Opto—ElectronicEngineering July’2010 文章编号：1003—501X(2010)07—0102—05 莫尔条纹分析及其在光刻对准中的应用马平，周绍林，胡松，徐文祥 (中国科学院光电技术研究所，成都610209) 摘要：从莫尔条纹用于光刻对准的实际应用出发，从傅里叶光学的角度重点讨论了一般光栅及线光栅对莫尔条纹的调制规律，并对广泛应用的低频(1，．1)级莫尔条纹进行了仿真分析。最后通过仿真分析说明，在光刻对准中，对栅线重复频率相差很小的两光栅对准标记，将产生对位移具有高灵敏度特性的放大莫尔条纹，从而实现高精度光刻对准，并对采用该对准方法的光刻对准精度进行了简要分析。关键词：莫尔条纹；光栅；调制规律；光刻对准中图分类号：N31 文献标志码：A The ofMoir6 and onthe Analysis FringesApplication of AlignmentLithography MA Shao-lin，HUWen-xiang Ping，ZHOU Song，XU Abstract：Basedontheactual ofMoir6 forthe of on applicationfringes alignmentlithography,themodulatingregulation Moir6 andline isdiscussed toFourierinthis thelow fringesproducedbygenetic gratings according optics paper，and whichis Wassimulated．AimedattWO marksofthelittle frequency(!，-1)classMoir∈fringeextensivelyapplied grating bc differencefrom forthe of Moir6 would repeated alignmentlithography．themagnifiedfringes produced frequency withthecharacteristictO was of sensitive simulation．Thus，highalignmentaccuracy displacement。whichexplainedby Was of the methodWas lithographyachieved．Finally,thealignmentaccuracylithographyby alignment analyzedbriefly． words：Moire of regulation；align