相移掩模保护膜残留胶清洗方式研究 research of the phase shift mask clean recipes to pellicle glue.pdfVIP

清洗技术与设备 电 子 工 业 专 用 设 聋 - 相移掩模保护膜残留胶清洗方式研究 尤 春，严剑荫，陈 卓 (无锡 中微掩模电子有限公司，江苏无锡214035) 摘 要 ：相移掩模 (PhaseShiftMask)在 实际使用过程 中，往往会 因为保护膜沾污、损坏或者因为 掩模结晶(Haze)等问题需要返回掩模工厂进行重新贴膜。重新贴膜时需要先去除保护膜并清洗 传统的清洗方式是采用硫酸+双氧水 (SPM)来进行清洗 。不过对于相移掩模来说 。SPM 清洗方 式容易造成硫酸根残留，进而造成产品Haze问题 ，影响产品使用。通过采用不 同的清洗方法进行 对 比和优化实验 ，找 出了最佳 的非 SPM 方式去除保护膜残留胶的方法 关键词 ：掩模保护膜 ；残胶；结晶；硫酸+双氧水 中图分类号 ：TN305．97 文献标识码 ：A 文章编号 ：1004．4507(2012)07—0026—03 ResearchofThePhaseShiftM askClean