沉积温度对热舟蒸发mgf2薄膜性能的影响 effects of deposition temperature on resistant-boat evaporated mgf2 films.pdfVIP

第20卷第3期 强 激 光 与 粒 子 束 V01．20，No．3 LASERAND 2008年3月 HIGHPOWER PARTICLEBEAMS Mar．．，2008 文章编号：1001·4322(2008)03一0396一05 沉积温度对热舟蒸发MgF2薄膜性能的影响。 尚淑珍1，赵祖欣1，邵建达2 (1．华东理工大学机械与动力工程学院承压系统安全科学教育部重点实验室，上海200237I 2．中国科学院上海光学精密机械研究所。上海201800) 摘 要： 采用热舟蒸发方法沉积了氟化镁(MgF2)材料的单层膜，沉积温度从200℃上升到350℃．间隔 为50℃．测量了样品的透射率和反射率光谱曲线，进行了表面粗糙度的标定。并在此基础上进行了光学损耗 及散射损耗的计算。同时对355nrfl波长处的激光诱导损伤阈值进行了测量。结果表明：随着沉积温度的升 高，光学损耗增加；在短波长范围散射损耗在光学损