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真空退火磁及磁光特性分析-无机材料学报
第 卷 第 期 无 机 材 料 学 报 ,
年 月 ,
’
真 空退 火 多层膜 的结构 、 磁 及磁光特性分析
李 明 蒋 志红 沈德 芳
中 国科 学院土 海 冶 金 研 究所 上 海
摘 要
本 文用 流磁 了 层 , 进 了较 为细 的 空 火处理 ,
直 控溅射方法制备 多 膜 并对其 行 致 真 退
结 果表 明, 适度 的低 温退 火 可增 加 多层膜 的矫顽力 , 而 并不 削弱 其磁滞克 尔 回线 的矩
形特征 当退火 温度达 到 以后 , 七 多层 膜 的矫顽 力 、 垂直各 向异性和 克 尔角将 强
‘
、 、
烈下 降, 晶体结构 的改善及应 力 的释放 晶粒 的增 长 层 间原子 扩散 引起 的 层 有效厚度减
、 、
薄 , 进而 居里温度 的下 降, 分别是 多层膜在低温 中温 高温退火过程 中, 磁 及磁 光性
能变化 的主要机制
类 词 磁光薄膜 , 多层膜 , 退火 , 矫顽 力
分关 键 号
引言
, ,
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