含氟紫外纳米压印光刻胶的研制 research on fluorine-contained uv-nanoimprint resist.pdfVIP

含氟紫外纳米压印光刻胶的研制 research on fluorine-contained uv-nanoimprint resist.pdf

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含氟紫外纳米压印光刻胶的研制 research on fluorine-contained uv-nanoimprint resist

加工、测量与设备 and Processing,MeasurementEquipment 含氟紫外纳米压印光刻胶的研制 赵彬1,周伟民2,张静2,刘彦伯2,王金合2, 张燕萍2,施利毅1,张剑平1 (1.上海大学理学院化学系,上海200444; 2.上海市纳米科技与产业发展促进中心纳米核心技术实验室,上海200237) 摘要:从主体树脂性质、光引发荆的选择、助剂的选择、溶剂的设计等多个方面论述了含氟纳米 压印光刻胶的研制工艺。在纯有机材料为主体的光刻胶中引入了全氟丙烯酸酯助荆,解释了含氟 助荆在光刻胶中的作用。使用接触角法评估了全氟丙烯酸酯对光刻胶表面性质的影响,并通过接 触角数据预测了光刻胶的脱模能力。通过旋涂、压印、刻蚀等实验验证了光刻胶的性能,并通过 实验数据筛选出了最佳配方。研制出的光刻胶样品图形保真度高、分辨率好,对底材有良好的黏 附力,且具有良好的脱模能力。 关键词:紫外纳米压印;光刻胶;含氟助荆;接触角;脱模 ResearchonFluorine-ContainedResist UV—Nanoimprint ZhaoBinl,Zhou Yanb02, Weimin2,ZhangJin92.Liu WangJinhC,ZhangYanpinga,ShiLiyil,ZhangJianping’ 200444,China; (1.ChemistryDepartment,SchoolofScience。S^口nghaiUniversity,Shanghai Promotion 200237,China) 2.LaboratoryofNanotechnology,ShanghaiNanotechnologyCenter(SNPC),Shanghai Abstract:The ofthefluorine-contained resistwasdis— developmentprocess UV-nanoimprint cussedinthe ofthemain choiceofthe andadditive,and way polymerproperty,the photoinitiator the inthe the ofthesolvent.The as additivewasadded resistwith design perfluoroacrylate pure materialsasthemain anditsfunctionintheresistwas effectofthe organic body explained.The onthesurface oftheresistfilmwasevaluatedcontactmethod perfluoroacrylate property by angle

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