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含氟紫外纳米压印光刻胶的研制 research on fluorine-contained uv-nanoimprint resist
加工、测量与设备
and
Processing,MeasurementEquipment
含氟紫外纳米压印光刻胶的研制
赵彬1,周伟民2,张静2,刘彦伯2,王金合2,
张燕萍2,施利毅1,张剑平1
(1.上海大学理学院化学系,上海200444;
2.上海市纳米科技与产业发展促进中心纳米核心技术实验室,上海200237)
摘要:从主体树脂性质、光引发荆的选择、助剂的选择、溶剂的设计等多个方面论述了含氟纳米
压印光刻胶的研制工艺。在纯有机材料为主体的光刻胶中引入了全氟丙烯酸酯助荆,解释了含氟
助荆在光刻胶中的作用。使用接触角法评估了全氟丙烯酸酯对光刻胶表面性质的影响,并通过接
触角数据预测了光刻胶的脱模能力。通过旋涂、压印、刻蚀等实验验证了光刻胶的性能,并通过
实验数据筛选出了最佳配方。研制出的光刻胶样品图形保真度高、分辨率好,对底材有良好的黏
附力,且具有良好的脱模能力。
关键词:紫外纳米压印;光刻胶;含氟助荆;接触角;脱模
ResearchonFluorine-ContainedResist
UV—Nanoimprint
ZhaoBinl,Zhou Yanb02,
Weimin2,ZhangJin92.Liu
WangJinhC,ZhangYanpinga,ShiLiyil,ZhangJianping’
200444,China;
(1.ChemistryDepartment,SchoolofScience。S^口nghaiUniversity,Shanghai
Promotion 200237,China)
2.LaboratoryofNanotechnology,ShanghaiNanotechnologyCenter(SNPC),Shanghai
Abstract:The ofthefluorine-contained resistwasdis—
developmentprocess UV-nanoimprint
cussedinthe ofthemain choiceofthe andadditive,and
way polymerproperty,the photoinitiator
the inthe
the ofthesolvent.The as additivewasadded resistwith
design perfluoroacrylate pure
materialsasthemain anditsfunctionintheresistwas effectofthe
organic body explained.The
onthesurface oftheresistfilmwasevaluatedcontactmethod
perfluoroacrylate property by angle
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