真空蒸发法制备sns薄膜及其光电性能研究 characterization of the sns thin films deposited by vacuum evaporation.pdfVIP
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真空蒸发法制备sns薄膜及其光电性能研究 characterization of the sns thin films deposited by vacuum evaporation
光 电子 ·激 光
第 卷 第 期 年 月
17 7 2006 7 VOl.17 NO.7 Jul.2006
Journalo O toelectronics Laser
f p
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真空蒸发法制备SnS薄膜及其光电性能研究%
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邱永华 !史伟民!魏光普!徐 环!林飞燕
上海大学 材料科学与工程学院 上海 200072
摘要 采用真空蒸发法 在载玻片上制备了SnS薄膜 分析表明 此法制备的SnS薄膜的导电类型为 p
型 在 晶面上有很强的择优取向 其晶粒呈棒状 平均长度约为 薄膜中的 与 原
111 0.2 0.3 m S Sn
~ u
子非常接近化学计量比 在吸收边附近薄膜的吸收系数约为 5 -1 光学能隙 约为 电阻
10 cm E 1.35 eV
g
率约为 240 0 cm 比其它方法制备的SnS薄膜 其在光学与电学性能上有较大的改善 更适合做薄膜
太阳能电池的吸收层 成功制备出了 结构的太阳电池 其光电转换效率达
ITO -SnS n-Si Ap g 0.71
关键词 SnS 薄膜 真空蒸发法 太阳电池
中图分类号! 文献标识码! 文章编号!
O484.4 A 1005-0086 2006 07-0817-04
CharacterizatiOn Of theSnSThin FilmsDe Osited b Vacuum Eva OratiOn
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