制作光纤光栅用相位掩模的衍射行为研究 study of diffraction action of phase mask for optical fiber grating fabrication.pdfVIP

2006 年 第3 期 光通信研究 2006 （总第135 期） STUDY ON OPTICAL COMMUNICATIONS （Sum. No. 135 ） 制作光纤光栅用相位掩模的衍射行为研究 刘 全，吴建宏，陈 刚，方玲玲 （苏州大学信息光学工程研究所，江苏苏州 215006 ） 摘要：利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究。研究发现，在紫外写入波长 （248 nm ）下，为了使零级衍射效率 5% ，且1 1 级的衍射效率 35% ，相位掩模的刻槽深度必须控制在230 ~ 280 nm ，占宽比 必须控制在0. 48 ~ 0. 65 。同时，与标量衍射理论的结果进行了分析对比。这些都为相位掩模的实际制作提供了有意义的结 果。 关键词：相位掩模；光纤光栅；衍射效率；严格耦合波理论 TN253 文献标志码：A 文章编号：1005 - 8788（2006 ）03 - 0058 - 03 中图分类号： Study of diffraction action of phase mask for optical fiber grating fabrication LIU Ouan ，WU Jianhong ，CHEN Gang ，FANG Lingling （Information Optics Engineering Institute ，Soochow University ，Suzhou 215006 ，China ） Abstract ：The diffraction characteristics of the phase mask for fiber grating fabrication is investigated using rigorous coupied-wave theo- ry. The resuits show that in order to keep the zero order diffraction efficiency 5% and 1 1st order diffraction efficiency 35% at UV-written waveiength of 248 nm，the groove depth and duty cycie of the mask must be controiied within the range of 230 ~ 280 nm and 0. 48 ~ 0. 65 respectiveiy. This conciusion has been anaiyzed and compared with that based on scaiar diffraction theory. Usefui informa- tion has been resuited for the practicai fabrication of the phase mask. Key words ：phase mask ；opticai fiber grating ；diffraction efficiency ；rigorous coupied-wave theory 光纤光栅技术是当前光纤通信、光纤传感、光信 法，精确分析必须采用严格矢量衍射理论，有目的地 息处理领域的一个全球性热门课题，是继20 世纪 专门研究矢量衍射理论以分析相位掩模的衍射特性 70 年代低损耗光纤，80 年代掺铒光纤放大器（ED- 还未见报道。本文将采用矢量衍射理论中的严格耦 FA ）之后光纤领域中具有里程碑意义的第3 次重大 合波理论［5 ~ 6 ］，对相位掩模的衍射行为进行深入的 技术突破。近年来，光纤光栅在光纤通信和传感技 研究，尤其是对相位掩模零级抑制问题进行了深入 术领域中得到了越来越广泛的应用。在光纤通信方