离子束溅射制备gdf光学薄膜沉积速率分布特性-中国光学.pdf

第９卷　第３期 　　　　 　　中国光学　　　　　　　 Ｖｏｌ．９　Ｎｏ．３ 　 　　 　　　　　　　 ２０１６年６月　 　 　 Ｊｕｎ．２０１６ ＣｈｉｎｅｓｅＯｐｔｉｃｓ 文章编号　２０９５１５３１（２０１６）０３０３５６０８ 离子束溅射制备 ＧｄＦ光学薄膜 ３ 沉积速率分布特性  贺健康 ，张立超，才玺坤，时　光，武潇野，梅　林 （中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 应用光学国家重点实验室超精密光学工程研究中心，吉林 长春 １３００３３） 摘要：本文采用离子束溅射方法制备ＧｄＦ薄膜，并研究其沉积速率分布特征。首先，采用膜厚仪测量得出ＧｄＦ薄膜在行 ３ ３ 星盘平面的二维沉积速率分布图，通过拟合模型得到二维沉积速率分布公式。其次，分析了束流束压及靶材角度对沉积 速率分布特征的影响。最后，以二维沉积速率分布公式为基础，通过计算机编程设计均匀性挡板，并进行膜厚均匀性实 验验证。结果表明，沉积速率在水平方向上满足ＥＣＳ函数分布，在竖直方向上满足标准 Ｇａｕｓｓ分布，拟合公式残差为 －６ ２０５×１０ 。改变离子源的束流和束压，沉积速率分布特征保持不变。而随着靶材角度的增大，Ｇａｕｓｓ分布的半峰宽值 逐渐增大，峰值位置ｘ逐渐增大，在 ＝２９２°时，ＧｄＦ薄膜的沉积速率最大。通过挡板修调实验，可将２７０ｍｍ口径平 ω ｃ θ ３ 面元件的膜厚均匀性调整为９７９％。 关　键　词：离子束溅射；光学薄膜；沉积速率；二维拟合；膜厚均匀性 中图分类号：Ｏ４８４．４１　　文献标识码：Ａ　　ｄｏｉ：１０．３７８８／ＣＯ０３５６ ＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎｒａｔｅｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎｏｆＧｄＦ ３ ｏｐｔｉｃａｌｃｏａｔｉｎｇｐｒｅｐａｒｅｄｂｙｉｏｎｂｅａｍｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ  ＨＥＪｉａｎｋａｎｇ，ＺＨＡＮＧＬｉｃｈａｏ，ＣＡＩＸｉｋｕｎ，ＳＨＩＧｕａｎｇ，ＷＵＸｉａｏｙｅ，ＭＥＩＬｉｎ （ＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇＲｅｓｅａｒｃｈＣｅｎｔｅｒｏｆＥｘｔｒｅｍｅＰｒｅｃｉｓｉｏｎＯｐｔｉｃｓ，ＳｔａｔｅＫｅｙ ＬａｂｏｒａｔｏｒｙｏｆＡｐｐｌｉｅｄＯｐｔｉｃｓ，ＣｈａｎｇｃｈｕｎＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＯｐｔｉｃｓ，ＦｉｎｅＭｅｃｈａｎｉｃｓ ａｎｄＰｈｙｓｉｃｓ，ＣｈｉｎｅｓｅＡｃａｄｅｍｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅｓ，Ｃｈａｎｇｃｈｕｎ１３００３３，Ｃｈｉｎａ） Ｃｏｒｒｅｓｐｏｎｄｉｎｇａｕｔｈｏｒ，Ｅｍａｉｌ：１５６５６５７９１７５＠１６３．ｃｏｍ Ａｂｓｔｒａｃｔ：ＴｈｅｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎｒａｔｅｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎｏｆｓｉｎｇｌｅＧｄＦｌａｙｅｒｄｅｐｏｓｉｔｅｄｂｙｉｏｎｂｅａｍｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ（ＩＢＳ）ｈａｓ ３ ｂｅｅｎｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｅｄｉｎｔｈｉｓｐａｐｅｒ．Ｆｉｒｓｔ，ＴｗｏｄｉｍｅｎｓｉｏｎｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎｒａｔｅｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎｏｆＧ