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石英晶体膜厚控制仪-上海膜林
石英晶体膜厚控制仪
XDM、MXC
Crystal Thin Film Deposition Controller
User manual
用
户
手
册
上海膜林科技有限公司
Shanghai MorningTech Co., Ltd
XDM 用户手册
目录:
变更履历
第一章 仪器介绍与技术规格
1.1 仪器介绍
1.2 技术规格
1.3 MXC-3K与 XDM-3K 异同点
第二章 硬件安装及配置
2.1 XDM2 前面板
2.2 XDM2 接口
2.3 XDM3 接口
2.4 振荡包XDM-X 接口
2.5 仪器硬件总体
2.6 输入端口自定义配置
2.7 输出端口自定义配置
2.8 蒸发源坩埚配置
2.9 硬件配置举例一
2.10 硬件配置举例二
第三章 仪器使用
3.1 人机界面操作
3.2 系统使用介绍
3.3 新手上路
第四章 通信协议
参见串口通信协议篇,另附。
第五章 常见问题及对策
5.1 常见问题及对策
5.1.1 新晶振片安装后损耗不正常
5.1.2 晶振探头是否良好的快速检测方法
5.1.3 晶振失效或频率不稳定
1
XDM 用户手册
5.1.4 输入输出检查
5.1.5 坩埚不转动、不到位或到位与手动存在偏差
5.2 联系我们
第六章 一些说明
6.1 XDM 如何实现自动控制
6.2 基本原理
6.3 厚度计算方法及多层膜算法
6.4 阻力损耗
6.5 密度与声阻抗率
6.6 比例系数
6.7 PID 速率控制
6.8 晶控厚度控制
6.9 控制延迟
6.10 最大功率延迟
6.11 如何指定运行膜系
6.12 如何只用于监测速率和厚度
6.13 可选功能
6.14 为什么有时镀膜机打到自动时,坩埚会自己跑到 1 号位
附录A上位机Windows API串口编程举例
附录B 常见材料Z-ratio,Density表
2
XDM 用户手册
变更履历
版本 发行日期 变更略要 作成者 审核 备注
Ver2.0.0 2012.07.26 初版 张子业 非公开版
Ver2.0.1 2013.04.30 新增 XDM3 张子业 用户版
Ver
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