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集成电路及著作权 　中国编辑。 集成电路是一种工业产品，在公众心目中它与著作权可谓“风马牛不相及”。但是，在步人信息社会的当今时代，它们确确实实地联系在一起了。这种联系正是知识产权法的一个最新发展。 一、独创性原则进入集成电路保护领域传统知识产权法可划分为著作权法与工业产权 法两大块，也可划分为著作权法、专利法和商标法三部分。它们分别根据所保护对象的不同确立了适合于自身的基本法律原则。著作权法要求被保护的作品具备独创性。具体地讲，著作权法对其所保护的作品并不要求创造高度，不论作品的质量高低、也不论在此之前是否有相同作品问世，只要作品是靠作者独立的智力劳动完成，不是抄袭他人之作，即可受到著作权法的保护。正是在这样的原则下文学、艺术和科学作品的创作才得以丰富多彩。相比之下，专利法对其所保护的技术提出了较为严格的新颖性、创造性和实用性等要求。其中创造性则是要求受保护的技术具有一定的创造高度，即不能是普通技术人员从已有技术中可推知的显而易见的结果。由此可知，不具备一定的创造高度的技术，是得不到专利法保护的。 知识产权法的这种分工是与一定的生产力发展水平相适应的。随着技术的发展，尤其进入了信息时代，传统的知识产权法律体系面对某些新兴技术就显得有些不适应。人们通常以为，集成电路作为一种工业产品理所当然地应当受到专利法的保护。但事实上，专利法能够提供给集成电路的保护确实十分有限。由于集成电路本身的特性，使得大多数集成电路产品，有时甚至是最先进的集成电路也不能满足专利法中的创造性要求。 然而集成电路作为信息社会的基石，在当今世界上发挥着与其他产品无与伦比的作用。可以毫不夸张地说，在一切技术领域，乃至日常生活的每一个角落，无不有集成电路的身影。因此集成电路技术成了各国技术竞争的焦点。不少不法厂商采用非法手段窃取他人技术，仿制集成电路大发横财。为维护正常的竞争秩序，集成电路保护成了刻不容缓的问题。由于集成电路产品与专利体系不协调，这迫使人们另辟蹊径。 在制造集成电路产品的过程中，集成电路布图设计起着至关重要的作用。所谓布图设计（1ayoutdesign）是指集成电路芯片中各种元器件的三维配置，美国人称之为掩模作品（maskworks），欧洲人称其为形貌结构（tohography），日本人将它叫作线路布图（circuitlayout）。布图设计可以以掩模图形的方式存在于掩模板（制造集成电路所必须的一种中介物。制造一种集成电路需要载有这种集成电路全套布图设计的掩模板，多时可达十多块）上，也可以以编码的方式存在于计算机中或者磁盘、磁带上。对于制造完毕的集成电路芯片，布图设计是以图形的方式存在于芯片表面和表面下不同深度处。正是这一系列图形的组合构成了相互联系的各种元器件，从而可以实现其电子功能。一个有经验的技术人员只要掌握了全套布图设计，便可十分容易地制造出这种集成电路。现实中一些不法厂商和个人就是靠窃取或倒卖他人布图设计牟取暴利的。所以要保护集成电路产品，必须进一步保护布图设计。而布图设计与集成电路产品间又存在着一一对应关系，即一种布图设计只能生产一种集成电路，故保护了布图设计也就间接地保护了集成电路产品。 1984年，美国在世界率先颁布了保护集成电路法律-《半导体芯片保护法》。该法保护的直接对象不是集成电路产品，而是布图设计（该法中称掩模作品）。考虑到布图设计的某些特点，该法引入了著作权法中的独创性（origionality）原则。要求受保护的布图设计必须满足独创性条件；这便把著作权法的保护原则引进到技术领域。当然，布图设计毕竟带有技术性，为了保护先进技术，防止将一些司空见惯的技术垄断，仅有独创性要求是不够的。为此，该法又规定受保护的布图设计不能是普通的，平庸的或者为人所熟知的。这实际上是对创造高度的要求，但这里的创造高度比起专利法中的创造性所要求的高度要低得多。这里，独创性与创造性在一定程度上结合到了一起。这是当今知识产权法的又一发展。 在美国之后，日本于1985年颁布了《半导体集成电路线路布局法》，欧共体于1986年发布了《关于半导体产品形貌结构法律保护的指令》，世界知识产权组织也于1989年通过了《关于集成电路知识产权保护条约》。到目前为止，已有近20个国家和地区颁布了这方面的法律。值得注意的是，无论是国际组织的条约、指令，还是各国的国内立法均采用了美国式的做法，即采用介于著作权法与专利法之间的一种混合型特别法来保护集成电路。 二、布图设计与著作权客体的比较 各国之所以接受美国的做法，把独创性原则作为保护布图设计的基础，是因为布图设计在许多方面确实与著作权客体有着诸多相似之处。 首先，作为知识产权法所保护的对象，它们都具有无形性。布图设计是集成电路中各种元件的配置方案，其存在方式可有多