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財團法人國家實驗研究院 國家奈米元件實驗室 阻劑塗佈及顯影系統 招標規範書 說明： 本規範適用於財團法人國家實驗研究院國家奈米元件實驗室阻劑塗佈及顯影系統壹組之採購，本規範如有任何疑慮依業主解釋為準。 採購標的數量及規範： 本購案採購標的為適用於SEMI標準規格8吋刻痕式（V notch）晶圓之阻劑塗佈及顯影系統壹組，製造年份必須為西元200年之後出廠之設備，投標廠商提供的部品須符合或優於下列規範： 晶圓載台站1座【驗收項目3】，為晶圓載入與載出之介面，至少包含以下部品： 晶圓載台與開放式晶舟4組，每個晶舟可裝載25片晶圓。 晶圓傳送裝置1組，可穩定的將晶圓自晶舟傳送至各個製程單元，附有強制停止開關。 晶圓數量及位置感測器1組。附著力增進烘烤製程烤製程 主要製程站1座，功能為執行微影相關製程，一般包含阻劑塗佈製程、阻劑顯影製程附著力增進製程、烘烤製程與冷卻製程；系統至少需包含以下部品： 阻劑塗佈單元（coater）2組。由於規劃功能不同，因此兩組的配置略有不同，主要差別在於阻劑供應線數量，一組是4條，一組是8條；硬體需求列舉如下： 第一組阻劑塗佈單元包含4條獨立之阻劑供應線，第二組阻劑塗佈單元包含8條獨立之阻劑供應線；每條阻劑供應線上皆配有：電動式阻劑推送幫浦1個，可噴灑阻劑量為1-8 ml、誤差±10％；過濾孔徑0.1μm的阻劑過濾器1個；阻劑噴嘴1個。【驗收項目4】 每組阻劑塗佈單元都有旋轉馬達1個：轉速1-5000 rpm、誤差±1 rpm、加速度100-50000 rpm/sec，附有強制停止開關。【驗收項目5】 每組阻劑塗佈單元都有流量可調的氣壓式溶劑供應線1條，內有過濾孔徑0.1μm的溶劑過濾器1個、溶劑噴嘴1個、底側沖洗噴嘴2個、邊緣沖洗噴嘴1個。【驗收項目6】 每組阻劑塗佈單元都有廢液承接盤3個。 兩組阻劑塗佈單元共用一個機台端廢液收集裝置，收集裝置需有排氣裝置、滿位偵測裝置以及漏液偵測裝置。 阻劑顯影單元（developer）2組。採用噴灑/混拌方式（spray/puddle）顯影，由於顯影製程是微影製程速度之瓶頸，因此規劃相同功能2組，以紓解製程壅塞，每組硬體需求列舉如下： 旋轉馬達1個：轉速1-5000 rpm、誤差±1 rpm、加速度100-50000 rpm/sec，附有強制停止開關。 流量可調的氣壓式顯影劑供應線1條，流量範圍為1-1000 ml/min，內有過濾孔徑0.1μm的顯影劑過濾器1個、顯影劑噴嘴1個。【驗收項目7】 流量可調的清洗用去離子水供應線一條，附有過濾孔徑0.1μm的去離子水過濾器1個，沖洗噴嘴1個、底側沖洗噴嘴2個。【驗收項目8】 廢液承接盤1個、廢液由NDL廠務端排放。 附著力增進單元（adhesion unit）組。負責執行附著力增進劑（HMDS）蒸塗作業，主要有 氣壓式HMDS供應線1條。 氣化瓶1個。 配有熱墊板的蒸塗腔體1個。【驗收項目9】 烘烤製程需要熱墊板（hot plate）6組。全部皆採用近接方式烘烤晶圓，且附有排氣裝置。由於製程溫度範圍與溫控精準度需求略有差異，因此依照需求分為： 一般熱墊板2組，溫度範圍50-180℃，誤差範圍≦1.4℃。【驗收項目10】 高溫熱墊板2組，溫度範圍50-350℃，誤差範圍≦5.0℃。【驗收項目11】 高精密度熱墊板2組，溫度範圍50-180℃，誤差範圍≦0.5℃，並配有防止過度烘烤（over baking）裝置。【驗收項目12】 冷卻製程需要冷墊板（cooling plate）3組，全部皆採用近接方式冷卻晶圓，溫度範圍21-29℃，誤差範圍≦0.4℃。【驗收項目13】 除上述之外，還必須有週邊設備以確保機台能正常運轉，包含： 電源轉換供應箱1只，可將NDL廠務端提供之電力轉換為適合設備使用之電力。 溫、濕度控制裝置1組，可控制阻劑塗佈單元之環境，溫度於20-25℃之範圍、相對濕度於35-45％、風速為0.4±0.05 m/sec。【驗收項目14】 水冷式溫度控制裝置，控制阻劑溫度、顯影劑溫度與旋轉馬達溫度。【驗收項目15】 化學品儲存裝置1組，主要存放本系統使用的化學品，可供存放阻劑、溶劑、顯影劑及HMDS，裝置需求如下： 化學品儲存裝置須有排氣接頭可銜接NDL廠務端排氣。 化學品儲存裝置須有漏液偵測裝置。 須有化學品不足偵測裝置。 各化學品須有獨立的漏液偵測裝置。 溶劑與顯影劑個別要有2個5加侖以上的不鏽鋼供應桶，並且可於使用完一桶之後，自動切換至另一桶。 符合NDL阻劑瓶口規格之阻劑瓶蓋接頭12組。 適用於無塵室的設備說明書及操作手冊1套， 具原廠授予永久使用權的設備原廠軟體1套，至少包含以下功能： 可設定使用權限層級 可編輯製程之流程、步驟、流量、流速、轉速、位置、溫度、時間等條件。 可顯示晶圓執行狀態、溫度、