高效平面全息衍射光栅的获取方法-光学精密工程.PDFVIP

第9 卷　第2 期　 光学　精密工程 Vol. 9, No. 2 2 0 0 1 年 4 月 O P T IC S AN D PR EC IS ION EN G IN EER IN G A p r. , 200 1 ( ) 文章编号　1004924X 200 1 020 10906 高效平面全息衍射光栅的获取方法 1 2 赵　博 , 齐向东 ( 1. 北京大学遥感与地理信息系统研究所, 北京 10087 1; 2. 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 吉林 长春　130022) 摘要: 从全息衍射光栅的制作原理出发, 介绍了全息光栅的主要制作方法, 并与刻划光栅对比分析了全 息衍射光栅的诸多优点。通过利用光栅设计的耦合波理论对全息衍射光栅槽型、槽深及槽间距等进行了 优化设计, 同时利用离子束刻蚀技术获得了高效率全息光栅。文中全面分析了制作高效率平面全息光栅 的各项关键技术。 关　键　词: 全息光栅; 离子刻蚀; 衍射效率 中图分类号: O 436. 1　　文献标识码: A 余误差, 在光栅的谱面上还可产生强度可观的各 1　引　　言 种鬼线, 影响光栅在高精度光谱仪器中的应用。而 且光栅刻划机的制造成本高、光栅刻划周期长、对 ( ) 　　随着国家在高新技术领域中大工程项 目如 周围环境 如温度、振动、电压波动等 的要求苛 LAM O ST 天文望远镜工程、同步辐射工程、激光 刻, 正是由于这些缺点限制了机械刻划式光栅的 核聚变工程的陆续开展, 高精度光谱分析仪器的 应用范围。随着激光技术在光栅制造领域中的应 应用领域和范围越来越广泛, 对高衍射效率、大刻 用、光学设计的计算机化、各种新材料的不断出现 划面积全息及全息离子刻蚀光栅的需求量也在逐 以及光栅理论的不断发展, 全息及全息离子刻蚀 步加大。本文试图就全息和全息离子刻蚀光栅的 光栅以其相对低廉的制造成本、较低的杂散光强 发展情况及制作方法做较为详细的论述。 度、高衍射效率和较高的破坏阈值等诸多优点, 目 衍射光栅的制作方法主要可以分为两种: 1) 前正在逐步改变以机械刻划式光栅为主的市场格 利用光栅刻划机在光栅基底刻划出具有周期结构 局, 成为衍射光栅应用的主流产品。 的刻槽, 这种光栅称为机械刻划式光栅; 2) 利用激 光干涉技术, 将涂覆在光栅基底上的光致抗蚀剂 2　全息光栅的制作原理 曝光并显影, 在光栅基底上形成具有周期结构的 刻槽, 或者进而利用离子束轰击刻槽使之成为闪 　　根据相干原理, 当两束平行记录单色光以夹 耀光栅, 增强光栅的衍射效率, 这种光栅称为全息 角 2 相交时, 如图 1 所示: 光栅或者全息离子刻蚀光栅。 机械刻划式光栅的优点是光栅的刻线密度可 以进行比较灵活地调整, 衍射效率高于一般的全 息光栅。刻划机分度机构普遍采用干涉反馈控制 系统, 用激光的波长或光栅刻槽的空间周期作为 基准, 它的刻划精度比纯机械式分度刻划机有了 大 幅度提高。 日本 的 H ITA CH I 公司、美 国的 R ICHA RD SON 光栅实验室等都 已研制出可 以