【2017年整理】光学膜层激光损伤阈值均匀性的实验研究.pdfVIP

　第 15 卷 　第 11 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol. 15 ,No. 11 　 　2003 年 11 月 HIGH POWER LASER AND PARTICL E BEAMS Nov. ,2003 　 文章编号 : (2003) 光学膜层激光损伤阈值均匀性的实验研究 1 1 1 1 1 ,2 刘 　强 , 　林理彬 , 　甘荣兵 , 　唐方元 , 　扎西次仁 ( 1. 四川大学 物理系, 四川 成都 610064 ;2 . 西藏大学 数理系, 西藏 拉萨 850000) 　　摘 　要 : 　镀制了多种氧化物介质薄膜 。用 Ron1 方法测定了膜层的激光损伤阈值。引入数据处理方 法 ,对测试数据进行分析。结果表明 ,基片清洗后 ,若放置一段时间再镀膜 ,则会影响到镀膜后膜层损伤阈值的 均匀性 ,但对损伤阈值自身大小没有影响。测试激光参数对阈值均匀性也有一定影响。 　　关键词 : 　氧化物介质 ; 　镀膜 ; 　损伤阈值 ; 　阈值均匀性 　　中图分类号 : 　TN24 　　　　文献标识码 : 　A 　　抗激光损伤阈值是指光学元件发生临界损伤时的入射激光束的能量密度。损伤阈值的大小是强激光系统 中光学元件抗激光能力设计的一个十分重要的指标。而影响薄膜激光损伤阈值的因素有[1 ] : ( 1) 所用的基体、 镀膜材料及膜层组合 ; (2) 所用的沉膜工艺、镀膜前基片的处理以及膜层预处理效应 ; ( 3) 所用的强激光参数。 因此 ,对不同基体、不同薄膜成份 ,不同膜系结构 ,不同沉积工艺 ,不同激光参数及预处理方法等对损伤阈值影 响的研究 ,尽管有了许多成果[2～6 ] ,但在实验上和理论上仍有许多工作要做。比如 ,有关 K9 玻璃基片的清洗 工艺方面研究的报道不多[5 ,7 ,8 ] ;对由 HfO , ZrO , Ta O 等膜料镀制的单层膜和交替沉积的 HfO / SiO 或 2 2 2 5 2 2 ZrO / SiO 反射膜的损伤阈值及损伤形貌的研究比较多[9 ,10 ] ,而对高折射率混合材料 ,如掺 Y O 的 HfO 、掺 2 2 2 3 2 Y O 的 ZrO 、掺 ZrO 的 HfO 等等[4～6 ] ,研究得就相对较少。由于可供选择的膜料很有限 , 因此从有限的膜 2 3 2 2 2 料中选择合适的膜料组合来提高激光膜层的损伤阈值是值得深入研究的。尽管这三类因素的相互作用关系是 复杂的 ,但是阈值大小却是所有这些因素最直接的综合反映。 　　激光对光学元件损伤的作用方式分为 4 种[11 ] : ( 1) 1on1 ,即元件的一个点上只辐照一次; (2) Son1 ,用相 同的激光能量脉冲以相同的时间间隔在元件的同一点上辐照多次; (3) Non1 ,激光能量脉冲由小到大逐渐增 加到破坏阈值 ,激光束以相同的时间间隔多次辐照在元件的同一点上 ; (4) Ron1 ,用等比例增加的激光能量脉 冲以相同的时间间隔在元件同一点上辐照多次。 　　光学元件的激光损伤有一定的随机性 ,服从一定的统计规律[12～14 ] 。为了准确地衡量光学元件的抗激光 损伤能力 ,在激光损伤阈值测试中 ,常用的方法是 1on1 测试法 ,而 Ron1 测试法用得较少。在国内 ,对 Non 1 测试法有个别