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TFT-LCD 概況及技術原理 Outline (一)TFT-LCD 概述 TFT LCD? TN/STN LCD? TFT/TN/STN LCD差異性 Liquid Crystal? Nematic/ Cholesteric Phase Display 發展趨勢 TFT LCD 興盛因素 TFT-LCD 產業分工 (二)TFT-LCD 國內發展現況 TFT-LCD Market Trend 投資金額龐大的TFT-LCD產業 (三)TFT-LCD 技術原理 LCD為一種光電裝置 TFT 的作用 液晶動作示意圖 Array 面板訊號傳輸說明 TFT Cell/Pixel Structure TFT Cross-sectional View C/F Cross-section View Arrangement of Color Filter 液晶材料之分類 液晶材料之物理化學特性 Nematic Liquid Crystal Materials 偏光板之作用 偏光片+LC之作用 Workflow For TFT-LCD Detail Workflow (四)Array Cell Module 製程簡介 Mask Decrease Cell 組合段 Cell 液晶段製程 Light on Test LCM Work-flow Polarizer Attachment TAB Process COG Process Aging/Burn-in Packing (五)TFT-LCD 發展課題 TFT-LCD開發課題 High Brightness/Low Power Consumption Higher Resolution Larger Panel Size/Higher Resolution Wide Viewing Angle Technology FUJIFILM TN Mode IPS Mode MVA Mode Comparison of Liquid Crystal Conclusion Array Cell Module C/F 力盛光電 Workflow For TFT-LCD Detail Workflow 力盛光電 Thin film Photo Etching TFT測試 5~7次 鍍BM Photo Etching 覆蓋R.G.B CF檢查 R.G.B顯影 R.G.B圖樣 RGB TFT製程 CF製程 PI Coat Sealant Rubbing Ag Dis. Spacer H.P Aligner LC filler S/B Beveling Realign End seal Panel測試 Cleaner 包裝出貨 Aging 外殼與B/L組裝 FPC COG/TAB Polarizer 封膠 LCM測試 Cell 前段 製程 Cell 後段製程 Module 製程 力盛光電 鍍膜(Sputter,CVD) 上光阻(coater) 對準,曝光(stepper) 光罩(Mask) 顯影(developer) 顯影液 蝕刻(etching) 去光阻液 去光阻 stripper 酸,氣體 鍍下層膜 Process of Array Cycle Process of Array Cycle Mask Decrease 力盛光電 Array 7-Mask 6-Mask 5-Mask 4-Mask 目前主流 Cr SiNx;a-Si; n+-Si Gate端子部 Gate Cr/Al Passivation ITO 力盛光電 Array (5 Mask) Array (5 Mask) TFT Cleaning CF Cleaning 分製程 PI Coating Pre- Curing Post Curing Rubbing Cleaning Cell PI段製程 力盛光電 Cell PI段製程 APR板 淡黃色 800~1200A PI Coating 力盛光電 PI Coating Rubbing Cloth PI膜配向,基板和 roller成45度角, TFT和CF基板方向 差 90 度 PI Rubbing 力盛光電 PI Rubbing 組合 Attachment Hot Press 撒佈 封膠 TFT Curing TFT Sealant Ag paste CF Spacer Spray CF Counting 力盛光電 Cell 組合段製程 SEALANT(框膠,點銀膠) S